[實用新型]一種制備觸摸屏引線電極區的裝置有效
| 申請號: | 201320286279.5 | 申請日: | 2013-05-23 |
| 公開(公告)號: | CN203260012U | 公開(公告)日: | 2013-10-30 |
| 發明(設計)人: | 劉志斌;楊曉暉;陳凱;李月秋;黃海東;趙斌 | 申請(專利權)人: | 無錫力合光電石墨烯應用研發中心有限公司;無錫力合光電傳感技術有限公司 |
| 主分類號: | G06F3/041 | 分類號: | G06F3/041 |
| 代理公司: | 北京品源專利代理有限公司 11332 | 代理人: | 鞏克棟 |
| 地址: | 214174 江蘇省無錫市惠山區*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 制備 觸摸屏 引線 電極 裝置 | ||
技術領域
本實用新型涉及觸摸屏制作的技術領域,尤其涉及一種制備觸摸屏引線電極區的裝置。
背景技術
觸摸屏是一種輸入設備,能夠方便實現人與計算機及其它便攜式移動設備的交互作用。近年來,基于透明導電薄膜的電容觸摸屏被廣泛應用于移動互聯設備,如智能手機,便攜式平板電腦。
觸摸屏按照功能區域劃分為視窗觸控區2和引線電極區1,引線電極區1通過控制器連接外部結構(圖1為電容式觸摸屏的功能區域示意圖)。電容式觸摸屏從構造上可分為雙片式電容觸摸屏和單片式電容觸摸屏。但無論雙片式電容觸摸屏還是單片式電容觸摸屏,均需要在基板上鍍一層透明導電膜層。而在透明導電膜層的四邊均需鍍上狹長的電極,以便在導電體內形成一個低電壓交流電場。在觸摸屏幕時,由于人體電場,手指與導體層間會形成一個耦合電容,四邊電極發出的電流會流向觸點,而電流強弱與手指到電極的距離成正比,位于觸摸屏幕后的控制器便會計算電流的比例及強弱,準確算出觸摸點的位置。
在電容式觸摸屏的制備過程中,覆有透明導電膜層的基板上需要僅在引線電極區涂覆導電的金屬膜層作為引線電極,以將視窗觸控區接收到的觸控點信號傳送給觸摸屏的信號接收器。
金屬膜層的制備普遍采用濺射鍍膜的方式實現。濺射鍍膜是利用高能離子沖擊材料靶,從其表面濺射出粒子并沉積在工件表面上形成薄膜的方法。
從制備工藝上來說,在濺射鍍膜過程中利用掩膜版直接形成引線電極區是一種比較簡便實用的方法,但制備過程中掩膜版任何部分都不能遮擋引線電極區,這就使得掩膜版的固定成為一個難題,且懸空的掩膜版難以精確定位,所以直接形成引線電極區仍是尚未解決的技術難點。
因此,本領域急需開發一種制備觸摸屏引線電極區的裝置,利用該裝置,通過所述的方法能夠在濺射鍍膜過程中,直接形成清晰準確的引線電極區。
實用新型內容
針對現有技術的不足,本實用新型提供一種制備觸摸屏引線電極區的裝置,它可以直接形成清晰準確的引線電極區,解決了現有技術為了固定掩膜版需要犧牲部分濺射鍍膜區域實施固定,而為了保證濺射鍍膜區域不被遮擋又無法固定掩膜版的兩難問題。
為了實現上述目的,本實用新型提供了一種制備觸摸屏引線電極區的裝置,所述裝置包括用于放置基片的底座,以及在濺射鍍膜過程中用于保護視窗觸控區不被濺射上金屬離子的掩膜版;圖1為電容式觸摸屏的功能區域示意圖(其中1為引線電極區;2為視窗觸控區);
所述掩膜版包括遮擋區和暴露區,所述遮擋區呈“凸”形結構,所述暴露區呈與遮擋區相配合的“凹”型,且所述掩膜版的大小與基片的大小相同;其中,所述遮擋區的“凸”形結構包括下面的基臺部分和上面的突出部分。
本實用新型通過設計一種異形掩膜版,所述掩膜版包括“凸”形結構的遮擋區和“凹”形結構的暴露區,當掩膜版與基片完全重合時,暴露區下的引線電極區暴露在濺射鍍膜氛圍中,被濺射鍍膜上金屬電極,此時掩膜版的遮擋區“凸”型的基臺部分設置夾具的固定端,用于固定掩膜版,且不遮擋暴露區,因此不會引起濺射鍍膜區域無法濺射金屬電極的問題;然后調換掩膜版暴露區的位置,使未濺射鍍膜的引線電極區暴露于濺射鍍膜氛圍中,被濺射鍍膜上金屬電極,此時夾具的固定端同樣設置于掩膜版的遮擋區“凸”型的基臺部分,且不遮擋暴露區;自此完成引線電極區的濺射鍍膜。
本實用新型提供的制備觸摸屏引線電極區的裝置可以直接完成引線電極區金屬電極的鍍制,并能夠保證金屬電極的清晰準確。
優選地,所述暴露區的寬度為同側引線電極區寬度的1~1.2倍,例如1.01倍、1.04倍、1.07倍、1.09倍、1.11倍、1.14倍、1.18倍、1.19倍等。
優選地,所述基臺部分(1033)的高度為基片(103)同側邊長度的0.4~0.5倍,例如0.41倍、0.43倍、0.47倍、0.49倍等,優選0.5倍。
例如有一基片,其尺寸為寬60mm,長90mm,引線電極區寬4mm,則掩膜版的尺寸(包括遮擋區和暴露區)也為寬60mm,長90mm,且遮擋區基臺部分的高度為36~45mm,暴露區的邊寬為4~4.8mm。
優選地,所述裝置包括用于限定基片位置的卡沿和活動限位塊。
所述卡沿和限位塊均為限位元件,目的是阻止基片和掩膜版的移動超過限位塊所在的位置。
優選地,所述裝置包括用于固定掩膜版的夾具,所述夾具可旋轉。
優選地,當夾具個數為1個時,所述夾具位于底座的中部。
優選地,當夾具個數為2個時,所述2個夾具分別位于底座的前部和后部。
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