[實(shí)用新型]基板的翻轉(zhuǎn)設(shè)備有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201320279910.9 | 申請(qǐng)日: | 2013-05-21 |
| 公開(公告)號(hào): | CN203300613U | 公開(公告)日: | 2013-11-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 彭圣醮;程昭榮 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 帆宣系統(tǒng)科技股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L21/67 | 分類號(hào): | H01L21/67 |
| 代理公司: | 北京中博世達(dá)專利商標(biāo)代理有限公司 11274 | 代理人: | 王晶 |
| 地址: | 中國(guó)臺(tái)灣臺(tái)北*** | 國(guó)省代碼: | 中國(guó)臺(tái)灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 翻轉(zhuǎn) 設(shè)備 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及一種翻轉(zhuǎn)設(shè)備,尤其涉及一種能于基板加工前進(jìn)行翻轉(zhuǎn)動(dòng)作,使各基板呈立置狀態(tài)以利于后續(xù)加工的翻轉(zhuǎn)設(shè)備。
背景技術(shù)
按,隨著半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的蓬勃發(fā)展,半導(dǎo)體相關(guān)的加工技術(shù)亦隨之廣泛應(yīng)用,舉玻璃基板的涂布加工為例,通常將一預(yù)設(shè)的涂布液涂布于該玻璃基板上,并配合涂布裝置將玻璃基板表面的涂布液伸展,進(jìn)而使涂布液能于玻璃基板表面形成涂布膜。
以習(xí)知基板加工前(以涂布為例,其他如清洗或蝕刻等流程亦相同)的備置型態(tài)而言,通常通過人力將每一片基板依序排列于一架體上,且為了能方便輸送、取出基板,作業(yè)人員通常由架體橫向置入使各基板呈橫置狀態(tài)后輸送至涂布加工處,惟,基于考慮各基板表面涂布的均勻度,故涂布時(shí)必須于各基板呈立置狀態(tài)下進(jìn)行,因此當(dāng)架體連同基板一并輸送至涂布加工處時(shí),則又必須由作業(yè)人員將各基板取下后翻轉(zhuǎn)呈立置狀態(tài),再放置回架體上才得以進(jìn)行后續(xù)涂布加工流程,導(dǎo)致人力及時(shí)間成本大幅提高,亦會(huì)產(chǎn)生加工效率不佳的缺弊,此外,由人力排列基板的備置型態(tài)容易因各基板未確實(shí)排列放置于正確位置、角度而影響加工成品,進(jìn)而產(chǎn)生成品質(zhì)量不佳的問題點(diǎn)。
發(fā)明內(nèi)容
本實(shí)用新型的主要目的在于提供一種基板的翻轉(zhuǎn)設(shè)備。
為達(dá)到上述目的,本實(shí)用新型采用以下技術(shù)方案:
一種基板的翻轉(zhuǎn)設(shè)備,包括一設(shè)備主體,具有立向延伸的一主架體,該主架體底部設(shè)置有一著置部;一籠狀架體,包括由縱、橫向間隔交錯(cuò)排列的框條所構(gòu)成中空籠狀型態(tài),該籠狀架體的一側(cè)向形成有開放端,且該籠狀架體內(nèi)設(shè)置有呈上、下間隔排列的至少兩組承載構(gòu)件,藉以能將至少兩組基板由籠狀架體的開放端橫向置入,令各基板承靠限位于每一組承載構(gòu)件之間而呈上、下間隔排列狀態(tài);一升降輸送單元,設(shè)置于該設(shè)備主體預(yù)定位置處,能載送該籠狀架體并沿著主架體作上升或下降動(dòng)作;一夾持翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu),設(shè)置于主架體一預(yù)定高度位置處,構(gòu)成當(dāng)升降輸送單元載送置入基板的籠狀架體上升至預(yù)定高度時(shí),該夾持翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)能夾持并帶動(dòng)籠狀架體翻轉(zhuǎn)一角度,使基板呈立置狀態(tài)后導(dǎo)送至后續(xù)加工流程處;且其中,當(dāng)該籠狀架體進(jìn)行翻轉(zhuǎn)的過程中,該升降輸送單元先下降至一高度位置,待翻轉(zhuǎn)動(dòng)作完成再度上升承接該籠狀架體;
藉此獨(dú)特創(chuàng)新設(shè)計(jì),使本實(shí)用新型對(duì)照先前技術(shù)而言,俾能通過該夾持翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)帶動(dòng)籠狀架體進(jìn)行翻轉(zhuǎn)動(dòng)作的結(jié)構(gòu)型態(tài),以使每一組基板于加工前皆呈間隔立置狀態(tài),令后續(xù)進(jìn)行加工時(shí)各基板表面加工程度皆能均勻一致,達(dá)到快速、節(jié)省人力以及大幅提升加工效果、加工效率與成品質(zhì)量等產(chǎn)業(yè)實(shí)用效益。
附圖說明
圖1為本實(shí)用新型的動(dòng)作示意圖。
圖2為本實(shí)用新型的動(dòng)作示意圖。
圖3為本實(shí)用新型的動(dòng)作示意圖。
圖4為本實(shí)用新型的動(dòng)作示意圖。
圖5為本實(shí)用新型的動(dòng)作示意圖。
圖6為本實(shí)用新型的動(dòng)作示意圖。
圖7為本實(shí)用新型另一實(shí)施型態(tài)的示意圖。
圖8為本實(shí)用新型的動(dòng)作示意圖。
圖9為本實(shí)用新型夾持翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)與籠狀架體的框條配合型態(tài)的立體圖。
具體實(shí)施方式
請(qǐng)參閱圖1至6,本實(shí)用新型基板的翻轉(zhuǎn)設(shè)備包括:
一設(shè)備主體10,具有立向延伸的一主架體11,該主架體10底部設(shè)置有一著置部12;
一籠狀架體20,包括由縱、橫向間隔交錯(cuò)排列的框條21所構(gòu)成中空籠狀型態(tài),該籠狀架體20的一側(cè)向形成有開放端22,且該籠狀架體20內(nèi)設(shè)置有呈上、下間隔排列的至少兩組承載構(gòu)件23,藉以能將至少兩組基板A由籠狀架體20的開放端22橫向置入,令各基板A承靠限位于每一組承載構(gòu)件23之間而呈上、下間隔排列狀態(tài);其中所述的承載構(gòu)件23包括設(shè)置于籠狀架體20框條21相異于開放端22一側(cè)的至少兩支撐塊231以及上、下間配置且具有支撐柱232的至少兩個(gè)橫架桿233所構(gòu)成(請(qǐng)配合參閱圖1、2),其中各橫架桿233所設(shè)支撐柱232之間呈上、下間隔相對(duì)狀態(tài),構(gòu)成當(dāng)基板A置入籠狀架體20時(shí),使得該基板A其中一端面能抵靠于支撐塊231,并使該基板A表面能位于上、下間隔相對(duì)的支撐柱232間呈抵靠限位狀態(tài);
一升降輸送單元30,設(shè)置于該設(shè)備主體10預(yù)定位置處,能載送該籠狀架體20并沿著主架體11作上升或下降動(dòng)作;該升降輸送單元30實(shí)施上包括具有至少兩個(gè)滾動(dòng)裝置31的一輸送臺(tái)32以及用以驅(qū)動(dòng)該滾動(dòng)裝置31的驅(qū)動(dòng)馬達(dá)33所構(gòu)成,當(dāng)驅(qū)動(dòng)馬達(dá)33驅(qū)使?jié)L動(dòng)裝置31作動(dòng)時(shí),能使該輸送臺(tái)32進(jìn)行輸送動(dòng)作;
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
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