[實用新型]轉盤式淋釉機

有效

• 申請號: 201320278783.0
• 申請日: 2013-05-21
• 公開（公告）號: CN203307239U
• 公開（公告）日: 2013-11-27
• 發明（設計）人: 凌愷;秦志東;趙盛林;黃健;梁文
• 申請（專利權）人: 廣西北流市智宇陶瓷自動化設備有限公司
• 主分類號: C04B41/86
• 分類號: C04B41/86
• 代理公司: 廣西南寧明智專利商標代理有限責任公司 45106
• 代理人: 黎明天

技術領域

本實用新型涉及一種日用陶瓷加工設備，尤其涉及一種陶瓷坯體淋釉裝置。

背景技術

現有的日用陶瓷淋釉生產線，采用循環輸送裝置，通過多重的傳動機構，實現托架的循環傳送；生產線一般包括坯托循環輸送裝置、吹塵裝置、噴水裝置、淋釉裝置，托架放在傳送帶上，跟隨傳送帶循環移動。淋釉過程中，工人將坯體放置在坯托上，坯體先后經過吹塵、噴水處理，然后被傳送到第一個淋釉器下方，稍作停留，正面向上接受淋釉器施釉；正面施釉完畢，坯體又被傳送到第二個淋釉器下方，再稍作停留，由工人手動翻轉坯體，使其底面向上接受淋釉器施釉，底面施釉完畢，工人將坯體從托架上取下，空的托架經過循環傳送最終返回初始位置，如此不斷循環。

傳動過程中，在生產車間內，形成一條漫長的傳送帶，占用大量的生產空間，同時也需要數目較多的工人照料此生產線；生產線包括坯托循環輸送裝置、吹塵裝置、噴水裝置、淋釉裝置多重組合機構，結構相對復雜。

檢索發現國內公開了相關的日用陶瓷淋釉設備專利技術：

例如【專利號】CN200820104401.1，【名稱】閉環式日用陶瓷淋釉生產線，【公開號】：?CN201268664，公開了一種閉環式日用陶瓷淋釉生產線，坯托循環輸送裝置、吹塵裝置、噴水裝置、淋釉裝置，特征是所述的坯托循環輸送裝置的機架上均布安裝傳動輪，傳動輪帶動輸送帶傳動，機架固定在機腳上，所述的輸送帶上架放坯托與坯體，所述的淋釉生產線上設置前后兩套吹塵、噴水、淋釉裝置，所述兩套吹塵裝置的吹塵箱內裝有中壓風機與集塵箱，所述兩套噴水裝置的噴水箱內的噴水槍通過高壓水管連接高壓噴霧泵，所述的淋釉裝置的兩套攪拌釉水泵通過輸釉管連接鐘罩淋釉器的漏斗入釉口。該生產線一定程度上提高了產品的質量和品質，但是存在占地面積大，操作員工數量多等缺點，而且相應設備結構復雜，不利于改進和維修。

【專利號】CN200720177350.0，【名稱】日用陶瓷半自動淋釉機，【公開號】：CN201125219，公開了一種日用陶瓷半自動淋釉機，該淋釉機包括淋釉器總成、托坯架、傳送帶、調整裝置、轉彎機、工作臺、正背面淋釉裝置。特征是傳送帶上放托坯架上放瓷坯，瓷坯頂上對著淋釉器總成I，傳送帶兩端有轉彎機，淋釉器總成I的過濾網外面是隔釉罩，隔釉罩下面是過渡支架，隔釉罩下面是隔釉環，隔釉環外面是弧形罩，弧形罩外面是釉漿分散器，釉漿分散器底是擋釉托。釉漿從釉漿分散器流出形成釉幕流到瓷坯上，兩側有擋釉托擋釉，具有釉幕均勻、穩定、釉面平整、不粘帶、沒有口沿釉縷等優點。該設備同樣存在占地面積大的缺點。

【專利號】CN200920141217.9，【名稱】日用陶瓷弧形淋釉裝置，【公開號】：CN201485391U，公開了一種日用陶瓷弧形淋釉裝置，在相對早期的閉環淋釉線生產線的基礎上，對淋釉器下方的輸送帶部分進行改造，使坯體在淋釉時改變坯體盤葉面與水平面的角度，特征是所述的背面淋釉器下方一段輸送帶設置有拱形皮帶導向條，拱形皮帶導向條的支架連接機架，正面淋釉器下方一段凸形皮帶設置有凹弧形皮帶導向條，凹弧形皮帶導向條的支架連接機架。該裝置也存在同樣的的問題：操作線太長，占地面積大。

因此對比現有技術可以發現，現有的淋釉設備占地面積大，浪費大量生產空間，不符合密集型生產的要求；現有的淋釉組合結構繁雜，不便于人員操作，也不利于對機器進行維護。

發明內容

本實用新型的目的是克服現有的淋釉設備占地面積大、操作員工數量多、能耗大的缺點，提供了一種占地面積小，操作簡單的轉盤式淋釉機。

本實用新型轉盤式淋釉機包括用于盛放坯體的托架、設置在托架正上方的淋釉器、帶動托架在封閉傳送線內循環運動的傳送機構和驅動傳送機構運轉的電動機，所述的傳送機構是一個轉盤，轉盤外沿均勻安裝有托架；還包括可旋轉的支撐體，支撐體包括外筒和內軸，內軸長度大于外筒長度，外筒可繞內軸旋轉，外筒上端與轉盤固定，內軸下端與機座固定；所述的支撐體的外筒下端設有與電動機相互匹配的傳動齒輪，電動機是變頻電動機，固定在機座上，通過傳動齒輪與支撐體的外筒連接。

所述的支撐體與轉盤之間固定有穩定條，三者連接結構形成直角三角形。所述的托架數量為10～20個。

與現有技術對比本實用新型的轉盤式淋釉機具有以下優點。

1、節省大量空間資源，采用轉盤式淋釉結構，把托架限制在一個比轉盤面積稍大的區域內做圓周運動，省卻了漫長的傳送帶，大大縮小了淋釉設備的占地面積；