[實用新型]一種高精密擠壓式涂布裝置

有效

• 申請號: 201320278744.0
• 申請日: 2013-05-21
• 公開（公告）號: CN203389808U
• 公開（公告）日: 2014-01-15
• 發明（設計）人: 金國華
• 申請（專利權）人: 上海襲麟光學科技發展有限公司
• 主分類號: B05C5/00
• 分類號: B05C5/00;B05C11/02
• 代理公司: 蘇州廣正知識產權代理有限公司 32234
• 代理人: 劉述生

1.一種高精密擠壓式涂布裝置，其特征在于，包括DIE涂布頭機構、滑槽定位機構、膠液回收機構以及DIE涂布底輥撐料機構，所述的DIE涂布頭機構的左右兩側上方分別安裝所述的滑槽定位機構，所述的DIE涂布頭機構的下部還附帶有兩個膠液密封腔，所述的DIE涂布底輥撐料機構安裝在所述的膠液密封腔上方的一側，所述的膠液回收機構放置在所述的DIE涂布底輥撐料機構的下方并與所述的滑槽定位機構相連接，其中，所述的擠壓式涂布裝置還包括上下調節輥撐料機構，所述的上下調節輥撐料機構用于替代DIE涂布底輥撐料機構。

2.根據權利要求1所述的高精密擠壓式涂布裝置，其特征在于，所述的DIE涂布頭機構包括上壓板、下壓板以及安裝在上壓板和下壓板之間的擠壓式涂布頭，所述的上壓板和下壓板之間通過不銹鋼螺絲鎖緊固定。

3.根據權利要求2所述的高精密擠壓式涂布裝置，其特征在于，所述的上壓板和下壓板之間還墊加有兩塊不同厚度的錳鋼片，所述的擠壓式涂布頭安裝在兩塊錳鋼片之間。

4.根據權利要求2所述的高精密擠壓式涂布裝置，其特征在于，所述的下壓板為等截面雙腔結構，所述的下壓板上設置有第一儲料腔和第二儲料腔，所述的第一儲料腔高于第二儲料腔。

5.根據權利要求2所述的高精密擠壓式涂布裝置，其特征在于，所述的上壓板和下壓板采用雙相鋼的材質。

6.根據權利要求1所述的高精密擠壓式涂布裝置，其特征在于，所述的DIE涂布底輥撐料機構包括DIE涂布底輥以及分別安裝在DIE涂布底輥兩端的軸承座。

7.根據權利要求6所述的高精密擠壓式涂布裝置，其特征在于，所述的DIE涂布底輥的直徑為200-400mm。

8.根據權利要求1所述的高精密擠壓式涂布裝置，其特征在于，所述的上下調節輥撐料機構包括側擋板、調節輥以及調節手閥，所述的調節輥分別安裝在側擋板的上下兩端，所述的調節手閥安裝在調節輥的一端。