[實用新型]一種凈水處理裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201320277034.6 | 申請日: | 2013-05-21 |
| 公開(公告)號: | CN203295249U | 公開(公告)日: | 2013-11-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 李占日;李偉;張美玲;劉洪濤 | 申請(專利權(quán))人: | 山西省環(huán)境工程設(shè)計院(有限公司) |
| 主分類號: | C02F1/52 | 分類號: | C02F1/52 |
| 代理公司: | 太原高欣科創(chuàng)專利代理事務(wù)所(普通合伙) 14109 | 代理人: | 崔雪花 |
| 地址: | 030012 山*** | 國省代碼: | 山西;14 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 凈水 處理 裝置 | ||
1.一種凈水處理裝置,包括旋流混合反應(yīng)區(qū)(1)、高效斜板沉淀區(qū)(2)和淺層過濾區(qū)(3),是一種連續(xù)同心圓反應(yīng)器,設(shè)備本體(4)的上部為圓柱殼體,設(shè)備本體(4)的下部為圓錐殼體,所述圓柱殼體中部為與圓柱殼體同心的圓形的濾池(5),所述圓錐殼體圍成的區(qū)域為旋流混合反應(yīng)區(qū)(1),所述圓柱殼體與濾池(5)之間的部分為高效斜板沉淀區(qū)(2),所述濾池(5)內(nèi)部為淺層過濾區(qū)(3);其特征在于:所述圓錐殼體的下部設(shè)置有環(huán)繞在圓錐殼體外的環(huán)形的配水管(6),所述配水管(6)設(shè)有多個支管與旋流混合反應(yīng)區(qū)(1)連通,所述旋流混合反應(yīng)區(qū)(1)設(shè)置有排泥管(7),所述排泥管(7)的下端口位于旋流混合反應(yīng)區(qū)(1)的底部,排泥管(7)的上端口與大氣連通,排泥管(7)的中部出泥口伸出設(shè)備本體(4)外部;所述高效斜板沉淀區(qū)(2)中部設(shè)置有斜板(8),所述斜板(8)包括貼合在一起的上部斜板和下部斜板;所述高效斜板沉淀區(qū)(2)上部設(shè)置有多個集水槽(9),所述集水槽(9)沿徑向均布設(shè)置,所述濾池(5)與集水槽(9)對應(yīng)的位置設(shè)置有配水孔,所述濾池(5)內(nèi)部設(shè)置有配水擋板(10),所述配水擋板(10)內(nèi)側(cè)上部設(shè)置有環(huán)形排水槽(11),所述排水槽(11)連通有出水管(12),所述出水管(12)穿過高效斜板沉淀區(qū)(2)伸出設(shè)備本體(4)外部。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種凈水處理裝置,其特征在于:所述圓錐殼體的錐角為60?。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種凈水處理裝置,其特征在于:所述上部斜板和下部斜板的斜孔所成的角度為90?-120?,所述下部斜板的高度為斜板(8)總高的1/4-1/3。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種凈水處理裝置,其特征在于:所述配水管(6)與旋流混合反應(yīng)區(qū)(1)連通的多個支管均與所述設(shè)備本體(4)相切。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種凈水處理裝置,其特征在于:所述配水擋板(10)內(nèi)設(shè)有雙層濾料。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種凈水處理裝置,其特征在于:所述雙層濾料由下到上級配由粗到細(xì)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種凈水處理裝置,其特征在于:所述濾池(5)設(shè)置有反洗氣管(13)和反洗排水管(14),所述反洗氣管(13)穿過設(shè)備本體(4)和高效斜板沉淀區(qū)(2)在濾池(5)內(nèi)部環(huán)形布置,所述反洗排水管(14)穿過設(shè)備本體(4)和高效斜板沉淀區(qū)(2)由濾池(5)中央豎直向上通到低于排水槽(11)槽口的位置。
8.據(jù)權(quán)利要求1或3所述的一種凈水處理裝置,其特征在于:所述斜板(8)用斜管代替。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種凈水處理裝置,其特征在于:所述集水槽(9)的數(shù)量為3-6。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種凈水處理裝置,其特征在于:所述支管的數(shù)量為3-6。
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