[實(shí)用新型]平面可控硅器件芯片有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201320272681.8 | 申請(qǐng)日: | 2013-05-20 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN203325910U | 公開(kāi)(公告)日: | 2013-12-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 劉紀(jì)云;王仁書;祝方明;陳實(shí) | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 揚(yáng)州中芯晶來(lái)半導(dǎo)體制造有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L29/74 | 分類號(hào): | H01L29/74;H01L29/06;H01L21/332 |
| 代理公司: | 揚(yáng)州蘇中專利事務(wù)所(普通合伙) 32222 | 代理人: | 許必元 |
| 地址: | 225009 江蘇*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 平面 可控硅 器件 芯片 | ||
1.平面可控硅器件芯片,包括硅襯底片,硅襯底片表面依次設(shè)置的摻氧多晶硅鈍化層(5)、下二氧化硅層(7)、磷硅玻璃層(8)、上二氧化硅層(9)和門極區(qū)引線孔窗口(10)、陰極區(qū)引線孔窗口(11),其特征是,在所述摻氧多晶硅鈍化層(5)與下二氧化硅層(7)之間設(shè)有摻氮多晶硅層(6)。
2.權(quán)利要求1所述的平面可控硅器件芯片,其特征是,所述硅襯底片由N-單晶硅片上設(shè)有隔離擴(kuò)散的P+區(qū)(1)、陽(yáng)極P區(qū)(2)、門極P區(qū)(3)及陰極N+區(qū)(4)構(gòu)成。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L29-00 專門適用于整流、放大、振蕩或切換,并具有至少一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體器件;具有至少一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘,例如PN結(jié)耗盡層或載流子集結(jié)層的電容器或電阻器;半導(dǎo)體本體或其電極的零部件
H01L29-02 .按其半導(dǎo)體本體的特征區(qū)分的
H01L29-40 .按其電極特征區(qū)分的
H01L29-66 .按半導(dǎo)體器件的類型區(qū)分的
H01L29-68 ..只能通過(guò)對(duì)一個(gè)不通有待整流、放大或切換的電流的電極供給電流或施加電位方可進(jìn)行控制的
H01L29-82 ..通過(guò)施加于器件的磁場(chǎng)變化可控的





