[實用新型]一種吸排式除塵設備有效
| 申請號: | 201320260716.6 | 申請日: | 2013-05-14 |
| 公開(公告)號: | CN203253293U | 公開(公告)日: | 2013-10-30 |
| 發明(設計)人: | 蔣細宗 | 申請(專利權)人: | 泉州豪翔石業有限公司;泉州市豐澤區宏興通風設備廠 |
| 主分類號: | B01D47/00 | 分類號: | B01D47/00 |
| 代理公司: | 廈門市首創君合專利事務所有限公司 35204 | 代理人: | 李秀梅 |
| 地址: | 362100 福*** | 國省代碼: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 吸排式 除塵 設備 | ||
技術領域
本實用新型屬于石材加工設備技術領域,具體的涉及一種用于處理石業生產手雕過程中所產生石粉塵的吸排式除塵設備。
背景技術
石材由于其特有的質感和紋路被廣泛運用于建筑裝飾領域,如室內外建材裝飾、基礎加工、寺廟雕刻、城市園林景觀雕刻等,現有高檔的石材加工主要先通過大型的削切機械對石材表面進行切削后,再通人工進行整修、雕刻、打磨,人工整修、雕刻、打磨時磨頭與石材工件表面產生摩擦會產生大量的石粉塵和噪音,不但影響廠房環境、勞動環境,而且嚴重影響工人的身體健康,另外石粉塵無法統一回收利用、清理困難。上述難題是長期以來困擾石材行業改善勞動環境的瓶頸。
實用新型內容
為克服現有技術中的不足,本實用新型提供一種能實現迅速凈化空氣、消除粉塵污染,可回收利用石粉塵的除塵設備,其特征在于:包括操作室、設置于操作室內的吸塵裝置和與操作室連接的排塵裝置,所述操作室頂面設有開啟機構,所述吸塵裝置包括設置于操作室正面的水幕墻、設置于水幕墻上端且沿水幕墻長度方向延伸的溢水槽、設置于水幕墻下方與溢水槽相對的貯水箱,所述排塵裝置包括進氣口、排塵管、風機,進氣口開設于水幕墻上、排塵管一端連接于操作室上且與進氣口相對應,風機安裝于排風管于進氣口相對應的一端。
進一步的,開啟裝置包括設置于操作室頂面的固定頂板、活動頂板以及滑輪軌道,固定頂板設置于頂面內側、活動頂板設置于頂面外側并通過滑輪支撐于滑輪軌道上。
進一步的,操作室內設有工作臺。
進一步的,操作室內設有防爆日光燈。
進一步的,吸塵裝置還包括一與貯水箱連通的排水溝、且排水溝與溢水槽中的水循環流動。
進一步的,水幕墻采用不銹鋼材料制作。
進一步的,排塵裝置至少設有兩組、且平行布置。
進一步的,風機為軸流式風機。
進一步的,排塵裝置還包括水槽,排塵管一端與操作室連接、另一端與水槽連通。
由上述對本實用新型的描述可知,本實用新型提供的吸排式除塵設備,將石粉塵吸至水幕墻上通過水淋沉淀,部石粉塵通過排塵管吸至水槽中水淋沉淀,該種吸排式除塵設備造價便宜、操作簡單、占地面積小、能迅速吸排石粉塵實現迅速凈化空氣、消除粉塵污染,吸收率達95%以上,沉淀后的石粉塵可直接回收利用。
附圖說明
圖1為本實用新型吸排式除塵設備的結構示意圖。
圖2為本實用新型吸排式除塵設備的俯視圖。
具體實施方式
以下通過具體實施方式對本實用新型作進一步的描述。
參照圖一種吸排式除塵設備,包括操作室1、吸塵裝置2和排塵裝置3。
操作室1內設有開啟機構11、工作臺12、防爆日光燈13,開啟裝置11包括設置于操作室1頂面的固定頂板111、活動頂板112、滑輪113以及滑輪軌道114,固定頂板111設置于頂面內側、活動頂板112設置于頂面外側并通過滑輪113支撐于滑輪軌道114上。
吸塵裝置2包括水幕墻21、溢水槽22、貯水箱23、排水溝24,水幕墻21設置于操作室正面采用不銹鋼材料制作,溢水槽22設置于水幕墻21上端沿水幕墻21長度方向延伸用于向水幕墻21淋水,溢水槽22設置于水幕墻21下方與溢水槽22相對用于收集從水幕墻21上留下的污水,排水溝24與貯水箱23連通、且排水溝24與溢水槽22中的水循環流動。
排塵裝置3設有兩組、平行布置,包括進氣口31、排塵管32、軸流式風機33、水槽34,進氣口31開設于水幕墻21上,排塵管32一端連接于操作室上且與進氣口31相對應、另一端與水槽34連通,軸流式風機33安裝于排風管32于進氣口相對應的一端。
參照圖1、圖2所示,該種吸排式除塵設備的工作流程如下:
開始運行前,將活動頂板112向后推開,通過起重機把工件吊至操作室1內的工作臺12上,在將活動頂板112拉回關閉操作室1,打開吸塵裝置2和排塵裝置3后該吸排式除塵設備開始運行;操作人員手持切割機操作時產生的石粉塵分散并集中在操作室1內,軸流式風機33運行時產生的吸力,將石粉塵吸至水幕墻21上通過水淋沉淀,部石粉塵通過排塵管32吸至水槽34中水淋沉淀,實現迅速凈化空氣、消除粉塵污染,吸塵效率達到95%以上,沉淀后的石粉塵可進行回收利用。
上述僅為本實用新型的一個具體實施方式,但本實用新型的設計構思并不局限于此,凡利用此構思對本實用新型進行非實質性的改動,均應屬于侵犯本實用新型保護范圍的行為。
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