[實用新型]化學機械研磨裝置

有效

• 申請號: 201320259718.3
• 申請日: 2013-05-14
• 公開（公告）號: CN203282330U
• 公開（公告）日: 2013-11-13
• 發明（設計）人: 唐強
• 申請（專利權）人: 中芯國際集成電路制造（北京）有限公司
• 主分類號: B24B37/10
• 分類號: B24B37/10
• 代理公司: 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237
• 代理人: 屈蘅;李時云

1.一種化學機械研磨裝置，包括一研磨墊和位于所述研磨墊上方的研磨臂，其特征在于，所述研磨臂的一端連接一第一馬達，所述第一馬達帶動所述研磨臂以預定的圓周進行旋轉，所述研磨臂的另一端連接一研磨頭，所述研磨頭固定一晶片，所述研磨臂的旋轉圓周的圓心與所述研磨墊的中心位置偏移預定距離，在所述研磨臂的旋轉過程中，所述晶片位于所述研磨墊內。

2.如權利要求1所述的化學機械研磨裝置，其特征在于，所述第一馬達按照預定條件帶動所述研磨臂沿所述研磨墊的徑向方向移動。

3.如權利要求1所述的化學機械研磨裝置，其特征在于，所述研磨臂通過所述研磨頭將所述晶片抵壓在所述研磨墊的表面。

4.如權利要求3所述的化學機械研磨裝置，其特征在于，所述研磨頭還連接一帶動所述研磨頭旋轉所述晶片的第二馬達，所述第二馬達位于所述研磨臂的另一端。

5.如權利要求1至4中任一項所述的化學機械研磨裝置，其特征在于，還包括一將所述漿料容器內的漿料散布在所述研磨墊的中心區域的漿料散管道，所述漿料散管道的一端連接一漿料容器，所述漿料散管道的另一端通至所述研磨墊的中心區域。

6.如權利要求5所述的化學機械研磨裝置，其特征在于，所述漿料散管道的另一端通過所述研磨臂的一端通至所述研磨墊的中心區域。

7.如權利要求1所述的化學機械研磨裝置，其特征在于，所述研磨墊固定于一旋轉臺上，所述旋轉臺連接一第三馬達，所述第三馬達帶動所述旋轉臺和研磨墊旋轉。

8.如權利要求1所述的化學機械研磨裝置，其特征在于，所述研磨墊為圓形。