[實用新型]一種燃燒室結構

有效

• 申請號: 201320258156.0
• 申請日: 2013-05-13
• 公開（公告）號: CN203256330U
• 公開（公告）日: 2013-10-30
• 發明（設計）人: 丁波;陳瀚;侯金松;程國軍
• 申請（專利權）人: 上海微世半導體有限公司
• 主分類號: C23C16/44
• 分類號: C23C16/44
• 代理公司: 上海勝康律師事務所 31263
• 代理人: 張堅

技術領域

本實用新型屬于LPCVD（Low?Pressure?Chemical?Vapor?Deposition，低壓化學氣相沉積）系統領域，尤其涉及一種燃燒室結構。

背景技術

目前市場上的高壓半導體分立器件均通過LPCVD系統在晶片表面形成一層表面鈍化薄膜來進行保護。

LPCVD系統在運行過程中使用的氣體，在其反應室內不可能完全反應，排風管道在將剩余氣體排出的時候會進行二次的反應，而反應后的粉塵會沉淀在排風管道上，使排風管道口越來越小，最后導致堵塞，此時，氣體因不能及時排出，就會有爆炸的可能，危險性極大的。

實用新型內容

基于此，針對上述技術問題，提供一種燃燒室結構。

為解決上述技術問題，本實用新型采用如下技術方案：

一種燃燒室結構，包括尾氣管道、杯形體以及排風管道，所述杯形體的底部可拆卸的套設于所述尾氣管道的尾端，所述排風管道的一端插設于所述杯形體的杯腔內，所述排風管道與所述杯形體的內壁以及底部均具有間隙，且所述排風管道經所述杯腔與所述尾氣管道連通。

本方案還包括用于將所述尾氣管道固定至相應機架的連接件，所述連接件套設于所述尾氣管道外。

本實用新型結構簡單、制造方便，在LPCVD系統反應室內未完全反應的剩余氣體可由氮氣稀釋后，在燃燒室內與空氣進行二次反應，二次反應生成的粉塵沉淀留在燃燒室內，而構成燃燒室的杯形體可拆卸后進行清理，既保證了排風管道不被堵塞，同時也避免了剩余氣體積累而導致自爆，安全性高。

附圖說明

下面結合附圖和具體實施方式本實用新型進行詳細說明：

圖1為本實用新型的結構示意圖。

圖2為本實用新型的杯形體的剖視圖。

具體實施方式

如圖1以及圖2所示，一種燃燒室結構，包括尾氣管道110、杯形體120以及排風管道130。

尾氣管道110的側面設有氣體入口111，尾氣管道110的頭端設有氮氣輸入接頭112。

可以理解的是，尾氣管道110可以由多個管體相互嵌套構成。

LPCVD系統的氣體反應室2經真空泵3與氣體入口111連接。

其中，氣體入口111可以為多個，可滿足LPCVD系統中具有多個反應室需求。

氣體入口111可以設置法蘭接頭，便于氣體入口111與真空泵3的連接，當然，兩者也可以通過其他連接方式。

杯形體120的底部可拆卸的套設于尾氣管道110的尾端，該杯形體120的杯腔與尾氣管道110連通。

可以理解的是，尾氣管道110的另一端也可以探入于杯形體120的杯腔內。

排風管道130的一端插設于杯形體120的杯腔內，排風管道130與杯形體120的內壁以及底部均具有間隙，且排風管道130經杯形體120的杯腔與尾氣管道110連通，而排風管道130內腔與杯形體120杯腔的公共部分就構成了供LPCVD系統反應室剩余氣體燃燒的燃燒室。

當尾氣管道110的另一端探入于杯形體120的杯腔內時，排風管道130的內壁與尾氣管道110的外壁之間同樣具有間隙。

在反應室2內未完全反應的剩余氣體經過抽真空的方式排放至尾氣管道110。向尾氣管道110底部的氮氣輸入接頭112通入氮氣，氮氣可對上述剩余氣體進行稀釋，剩余氣體稀釋后由排風抽取至燃燒室。

由于排風管道130與杯形體120的內壁以及底部均具有間隙，排風在抽取剩余氣體的同時也將空氣一同抽入燃燒室中，這樣，剩余氣體與空氣就在燃燒室內進行二次反應。

二次反應生成的粉塵沉淀留在燃燒室內，而杯形體120是方便拆卸下來進行清理的，這樣既保證了排風管道130不被堵塞，同時也避免剩余氣體積累而導致自爆。

為了將尾氣管道110固定至LPCVD系統的相應機架上，還可設置連接件140，連接件140套設于尾氣管道130外。

但是，本技術領域中的普通技術人員應當認識到，以上的實施例僅是用來說明本實用新型，而并非用作為對本實用新型的限定，只要在本實用新型的實質精神范圍內，對以上所述實施例的變化、變型都將落在本實用新型的權利要求書范圍內。