[實用新型]360°旋轉(zhuǎn)鈮管靶

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201320256701.2
• 申請日: 2013-05-13
• 公開（公告）號: CN203333747U
• 公開（公告）日: 2013-12-11
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 戚成偉
• 申請（專利權(quán)）人: 陜西華創(chuàng)稀有金屬科技有限公司
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術(shù)領(lǐng)域

本實用新型涉及機械領(lǐng)域，尤其涉及360°旋轉(zhuǎn)鈮管靶。

背景技術(shù)

濺射是制備薄膜材料的主要技術(shù)之一,它利用離子源產(chǎn)生的離子,在真空中經(jīng)過加速聚集,而形成高速度能的離子束流,轟擊固體表面,離子和固體表面原子發(fā)生動能交換,使固體表面的原子離開固體并沉積在基底表面,被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料,稱為濺射靶材。

1．?裝飾鍍膜

裝飾鍍膜主要是指手機、手表、眼鏡、衛(wèi)生潔具、五金零件等產(chǎn)品的表面鍍膜，不僅起到美化色彩的作用，同時也具有耐磨、耐蝕等功能。人民生活水平的不斷提高，要求越來越多的日常用品進行裝飾性鍍膜，因此裝飾鍍膜用靶材的需求量日益擴大。裝飾鍍膜用靶材主要品種有：鉻(Cr)靶、鈦?(Ti)靶、鋯(Zr)、鎳(Ni)、鎢(W)、鈦鋁(TiA1)、不銹鋼靶等。?

2.?工模具鍍膜

工模具鍍膜主要是用于工具、模具的表面強化，能顯著提高工具、模具的使用壽命和被加工零件的質(zhì)量。近年來，在航空航天和汽車產(chǎn)業(yè)發(fā)展的帶動下，全球制造業(yè)的技術(shù)水平和生產(chǎn)效率有了長足進步，對高性能刀具、模具的需求量日益增加。目前，全球工模具鍍膜市場主要在歐美和日本。據(jù)統(tǒng)計，發(fā)達國家機加工用刀具的鍍膜比例已超過?90％。我國刀具鍍膜比例也在不斷提升，刀具鍍膜用靶材的需求量日益擴大。工模具鍍膜用靶材主要品種有：TiAl靶、鉻鋁(CrA1)靶、?Cr靶、Ti靶等。?

3．玻璃鍍膜

靶材在玻璃上的應(yīng)用主要是制作低輻射鍍膜玻璃，即利用磁控濺射原理在玻璃上濺射多層薄膜，以達到節(jié)能、控光、裝飾的作用。低輻射鍍膜玻璃又稱節(jié)能玻璃，近年來，隨著節(jié)能減排和改善人們生活質(zhì)量需求的增加，傳統(tǒng)的建筑玻璃正逐漸被節(jié)能玻璃所取代。正是在這種市場需求的推動下，目前幾乎所有的大型玻璃深加工企業(yè)都在快速增加鍍膜玻璃生產(chǎn)線。與此相對應(yīng)，鍍膜用靶材的需求量快速增長，靶材主要品種有：銀?(ag)靶、Cr靶、Ti靶、鎳鉻(NiCr)靶、鋅錫(ZnSn)靶、硅鋁(Sia1)靶、氧化鈦(TiO)靶等。靶材在玻璃上的另一個重要應(yīng)用是制備汽車后視鏡，主要是鉻靶、鋁靶、氧化鈦靶等。隨著汽車后視鏡檔次要求的不斷提高，很多企業(yè)紛紛從原來的鍍鋁工藝轉(zhuǎn)成真空濺射鍍鉻工藝。?

4．電子器件鍍膜

電子器件鍍膜主要用于薄膜電阻和薄膜電容。薄膜電阻可以提供10～?1000MQ電阻，而且電阻溫度系數(shù)小、穩(wěn)定性好，可以有效減小器件的尺寸。薄膜電阻用靶材有NiCr靶、鎳鉻硅(NiCrSi)靶、鉻硅(CrSi)靶、鉭(Ta)靶、鎳鉻鋁(NiCrA1)靶等。?

5．磁記錄鍍膜?

21世紀是經(jīng)濟信息化、信息數(shù)字化的高科技時代。信息超高密度儲存和高速傳輸?shù)囊螅苿有畔⒏呒夹g(shù)的進一步發(fā)展。先進的電子計算機和獲取、處理、存儲、傳遞各種信息的自動化設(shè)備都需要儲存器，信息存儲包括磁信息存儲、磁光信息存儲和全光信息存儲等。磁存儲器如磁盤、磁頭、磁鼓、磁帶等是利用磁性材料的鐵磁特性實現(xiàn)信息存儲的。濺射薄膜記錄用的靶材包括Cr基、鈷(CO)基、鈷鐵?(CoFe)基、Ni基等合金。?

6．?平面顯示鍍膜

便攜式個人計算機、電視、手機等對平板顯示器件需求急劇增長的刺激，極大地促進了各類平板顯示器件的發(fā)展。平板顯示器種類有：液晶顯示器件(LCD)、等離子體顯示器件?(PDP)、薄膜晶體管液晶平板顯示器?(TFT—LCD)等。所有這些平板顯示器件都要用到各種類型的薄膜，沒有薄膜技術(shù)就沒有平板顯示器件。平板顯示器多由金屬電極、透明導(dǎo)電極、絕緣層、發(fā)光層組成，為了保證大面積膜層的均勻性，提高生產(chǎn)率和降低成本，濺射技術(shù)越來越多地被用來制備這些膜層。平面顯示鍍膜用靶材主要品種有：Cr靶、鉬(Mo)靶、Al靶、鋁合金靶，銅(CU)靶、銅合金和摻錫氧化銦(IT0)靶材等。?

7．?半導(dǎo)體鍍膜

信息技術(shù)的飛速發(fā)展，要求集成電路的集成度越來越高，電路中單元器件尺寸不斷縮小，元件尺寸由毫米級到微米級，再到納米級。每個單元器件內(nèi)部由襯底、絕緣層、介質(zhì)層、導(dǎo)體層及保護層等組成，其中，介質(zhì)層、導(dǎo)體層甚至保護層都要用到濺射鍍膜工藝，因此濺射靶材是制備集成電路的核心材料之一。半導(dǎo)體鍍膜用靶材主要品種有w、鎢鈦(wTi)、Ti、Ta、A1、?Cu等，要求靶材純度很高，一般在4N或5N以上，因此半導(dǎo)體鍍膜用靶材價格昂貴。

8．?太陽能電池鍍膜