[實用新型]基于光切原理的非接觸式傷痕深度測量裝置

有效

• 申請號: 201320250461.5
• 申請日: 2013-05-10
• 公開（公告）號: CN203259129U
• 公開（公告）日: 2013-10-30
• 發明（設計）人: 劉芳芳;傅云霞;曾燕華;張云;祝逸慶
• 申請（專利權）人: 上海市計量測試技術研究院
• 主分類號: G01B11/22
• 分類號: G01B11/22
• 代理公司: 上海浦東良風專利代理有限責任公司 31113
• 代理人: 陳志良

1.一種基于光切原理的非接觸式傷痕深度測量裝置，其特征在于：所述的測量裝置包括9J型光切顯微鏡光路殼體、長度計、光源及調節組件、CCD及調節組件、三維調節工作臺、壓板固定用T型導軌條、底座及顯微鏡導軌立柱；所述的底座為便攜式底座或花崗巖底座；所述的三維調節工作臺和顯微鏡導軌立柱并列支座在底座上，旁側還設有T型導軌條，連接在顯微鏡導軌立柱上的9J型光切顯微鏡光路殼體位于三維調節工作臺上方，且與三維調節工作臺呈懸空非接觸式，9J型光切顯微鏡光路殼體上表面并列連接長度計接觸塊組件和光源調節組件，所述的長度計接觸塊組件上端與長度計接觸，長度計又通過長度計連接件與顯微鏡導軌立柱頂端相連，CCD及調節組件與9J型光切顯微鏡光路殼體上側面構成45°傾斜連接。

2.根據權利要求?1?所述的基于光切原理的非接觸式傷痕深度測量裝置，其特征在于：所述的三維調節工作臺購自上海聯誼光纖激光器械廠，用于實現小型被測件的定位和寬度尺寸的測量，T型導軌條用于固定壓板，方便壓緊被測件。

3.根據權利要求?1?所述的基于光切原理的非接觸式傷痕深度測量裝置，其特征在于：所述便攜式底座的平板底面設有兩個燕尾槽，每個燕尾槽內鑲嵌三段圓柱支撐，便于在測量大型管狀工件或大型平面工件時平穩支撐測量裝置。

4.根據權利要求?1?所述的基于光切原理的非接觸式傷痕深度測量裝置，其特征在于：所述的9J型光切顯微鏡光路殼體所獲得的光切圖像用于瞄準，而不用于直接測量，且使用7倍物鏡，深度測量范圍可提高到10mm。

5.根據權利要求?1?所述的基于光切原理的非接觸式傷痕深度測量裝置，其特征在于：所述的光切顯微鏡引入機器視覺技術，CCD及調節組件中使用了像素尺寸為2.2μm×2.2μm的數字CCD代替人眼連續采集光帶圖像，分辨率達2592?pixel×1944?pixel，提高了測量精度，使標準傷痕試塊傷痕深度測量不確定度U<2μm。

6.根據權利要求?1或2?所述的基于光切原理的非接觸式傷痕深度測量裝置，其特征在于：所述的三維調節工作臺x、y軸行程均為25mm，最小分辨率為2μm，滿足對寬度尺寸測量的一般要求，旋轉行程為360°，并有±5°范圍的微調功能，方便準確地尋找到測量位置。

7.根據權利要求?1所述的基于光切原理的非接觸式傷痕深度測量裝置，其特征在于：所述的長度計采用精度為±0.2μm增量式光柵傳感器，作為深度測量的主標準器，并通過機械設計和裝校，保證所述長度計的測量軸線與權利要求1所述的9J型光切顯微鏡光路的法線重合，消除了阿貝誤差，確保了深度測量符合阿貝原則。