[實(shí)用新型]柔性掩膜板有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201320250451.1 | 申請(qǐng)日: | 2013-05-10 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN203241697U | 公開(kāi)(公告)日: | 2013-10-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 葉向東;蔡安江;阮小光 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 西安建筑科技大學(xué) |
| 主分類號(hào): | G03F1/00 | 分類號(hào): | G03F1/00 |
| 代理公司: | 西安通大專利代理有限責(zé)任公司 61200 | 代理人: | 蔡和平 |
| 地址: | 710055*** | 國(guó)省代碼: | 陜西;61 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 柔性 掩膜板 | ||
1.一種柔性掩膜板,其特征在于,包括柔性基板(1),柔性基板(1)上方依次設(shè)有粘結(jié)層(2)、金屬圖形結(jié)構(gòu)層(3)和柔性封裝層(4)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的柔性掩膜板,其特征在于,所述金屬圖形結(jié)構(gòu)層(3)和柔性封裝層(4)之間設(shè)有一層媒介層(5)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的柔性掩膜板,其特征在于,柔性基板(1)采用透明性柔性材料制成。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的柔性掩膜板,其特征在于,柔性基板(1)采用聚碳酸酯或聚二甲基硅氧烷制成;粘結(jié)層(2)采用環(huán)氧樹脂膠粘劑制成;金屬圖形結(jié)構(gòu)層(3)采用鋁或銅制成;柔性封裝層(4)采用聚二甲基硅氧烷制成。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的柔性掩膜板,其特征在于,媒介層(5)采用聚甲基丙烯酸甲酯制成。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設(shè)備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過(guò)帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過(guò)電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過(guò)100nm或更短波長(zhǎng)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學(xué)臨近校正(OPC)設(shè)計(jì)工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準(zhǔn)或測(cè)試的特殊涂層或標(biāo)記;其制備





