[實用新型]一種具有耐磨復合膜的工件

有效

• 申請號: 201320230508.1
• 申請日: 2013-04-28
• 公開（公告）號: CN203438616U
• 公開（公告）日: 2014-02-19
• 發明（設計）人: 劉伍健;劉金福;高儷芝
• 申請（專利權）人: 中山源謚真空科技有限公司
• 主分類號: B32B15/04
• 分類號: B32B15/04;B32B9/04
• 代理公司: 中山市漢通知識產權代理事務所(普通合伙) 44255
• 代理人: 古冠開;石仁

技術領域：

本實用新型涉及一種具有耐磨復合膜的工件。

背景技術：

為提高工件的裝飾性，尤其是金屬工件的裝飾性，使金屬工件更加美觀，通常會在金屬工件的外表面鍍上復合膜。但現有的鍍設有復合膜的工件，普遍存在硬度低、耐磨性差的缺陷，故有必要對其作出改進。

實用新型內容：

本實用新型的目的在于提供一種具有耐磨復合膜的工件，其外表面的耐磨復合膜硬度高、耐磨性好。

一種具有耐磨復合膜的工件，包括工件本體以及設于工件本體外表面的耐磨復合膜，其特征在于：所述耐磨復合膜包括自下而上依次設置的底層、耐磨層、中介層、以及白色貴金屬膜層，且所述耐磨層為摻雜有Si元素的薄膜層。

本實用新型之工件，其外表面的耐磨復合膜包括自下而上依次設置的底層、耐磨層、中介層、以及白色貴金屬膜層，且所述耐磨層為摻雜有Si元素的薄膜層，可進一步提高耐磨層之硬度，使復合膜更加耐磨。

本實用新型之耐磨復合膜，可通過如下方案進行改進：

所述耐磨層為TiSiC薄膜層、CrSiC薄膜層、或ZrSiC薄膜層，耐磨復合膜硬度高、耐磨性好。

所述耐磨層的厚度為0.5~5.0μm，結構簡單，可進一步提高耐磨層之硬度，使本實用新型之復合膜更加耐磨。

所述底層為Ti膜層，其厚度為0.01μm~0.5μm，可提高耐磨層與金屬工件的附著性。

所述中介層為不銹鋼薄膜層，其厚度為0.1~0.5μm，可提高耐磨層與白色貴金屬膜層的附著力。

所述白色貴金屬膜層是Pt、Pd、Rh、或上述各金屬的合金材料之一制成的金屬膜層，其厚度為0.1~1.0μm。可提高工件的表面裝飾性，使工件更加美觀。

所述工件為金屬工件。

所述工件為金屬手表零配件或金屬首飾零配件。

附圖說明：

圖1為本實用新型之工件的結構剖視圖。

具體實施方式：

如圖1所示，一種具有耐磨復合膜的工件，包括工件本體1以及設于工件本體外1表面的耐磨復合膜，所述耐磨復合膜包括自下而上依次設置的底層2、耐磨層3、中介層4、以及白色貴金屬膜層5，且所述耐磨層3為摻雜有Si元素的薄膜層。

進一步地，所述耐磨層3為TiSiC薄膜層、CrSiC薄膜層、或ZrSiC薄膜層。

再進一步地，所述耐磨層3的厚度為0.5~5.0μm。

再進一步地，所述底層2為Ti膜層，其厚度為0.01μm~0.5μm。

再進一步地，所述中介層4為不銹鋼薄膜層，其厚度為0.1~0.5μm。

再進一步地，所述白色貴金屬膜層5是鉑金（Pt）、鈀金（Pd）、銠金（Rh）、或上述各金屬的合金材料之一制成的金屬膜層，其厚度為0.1~1.0μm。

更進一步地，所述工件為金屬工件。

具體地，所述工件為金屬手表零配件，如：表殼、表帶、圈、底蓋、螺釘等；所述工件還可以是金屬首飾零配件，如項鏈、手鏈、指環、耳環、手環等。

本實用新型之工件，如金屬手表零配件、或金屬首飾零配件，在其外表面形成所述耐磨復合膜的工藝包括如下步驟：

1、將待鍍工件檢查之后，固定于掛架上。

2、以超聲波清洗，以去除工件表面所附著之油脂與拋光蠟。

3、清洗完畢后，對工件進行烘干以去除所吸附之水分。

4、將工件置入真空鍍膜機內，抽真空并加熱。所述真空鍍膜機的真空爐之真空壓力需低于7.5×10^-3Pa，溫度須高于150℃。

5、進入鍍膜程序之第一步驟：利用離子轟擊以去除工件表面氧化膜。

6、進入鍍膜程序之第二步驟：采用陰極電弧蒸鍍與磁控濺射蒸鍍交互運用工藝，在工件表面鍍上底層2，即Ti膜層，其厚度為0.01μm~0.5μm。

7、進入鍍膜程序之第三步驟：采用陰極電弧蒸鍍與磁控濺射蒸鍍交互運用工藝，在底層2外表面鍍上耐磨層3，即TiSiC薄膜層、CrSiC薄膜層、或ZrSiC薄膜層，其厚度為0.5~5.0μm。

8、進入鍍膜程序之第四步驟：采用磁控濺射蒸鍍工藝，在耐磨層3外表面鍍上中介層4，即不銹鋼薄膜層，其厚度為0.1~0.5μm。

9、進入鍍膜程序之第五步驟：采用磁控濺射蒸鍍工藝，在中介層4外表面鍍上白色貴金屬膜層5，該白色貴金屬膜層5是鉑金（Pt）、鈀金（Pd）、銠金（Rh）、或上述各金屬的合金材料之一制成的金屬膜層，其厚度為0.1~1.0μm。

10、待爐內冷卻后，破真空取出工件，進行檢查與包裝。

以上所述僅為本實用新型的較佳實施例，并非用來限定本實用新型實施的范圍，凡依本實用新型專利范圍所做的同等變化與修飾，皆落入本實用新型專利涵蓋的范圍。