[實用新型]一種具有三銀復合結構、低U值中性顏色低輻射鍍膜玻璃

有效

• 申請號: 201320225611.7
• 申請日: 2013-04-27
• 公開（公告）號: CN203293613U
• 公開（公告）日: 2013-11-20
• 發明（設計）人: 付亞東;方志堅;楊桂祥;樊小偉;耿振搏;張得全
• 申請（專利權）人: 天津耀皮工程玻璃有限公司
• 主分類號: B32B17/06
• 分類號: B32B17/06;C03C17/36
• 代理公司: 北京修典盛世知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 11424
• 代理人: 胡長遠

1.一種具有三銀復合結構、低U值中性顏色低輻射鍍膜玻璃，在玻璃基片上設有鍍膜，其特征在于：所述鍍膜的膜層結構由玻璃基片向外依次為：第一電介質層、復合吸收層、第一銀層、第一保護層、第一復合電介質層、第二銀層、第二保護層、第二復合電介質層、第三銀層、第三保護層、第三復合電介質層和頂層保護層。

2.根據權利要求1所述的具有三銀復合結構、低U值中性顏色低輻射鍍膜玻璃，其特征在于：第一電介質層為Si的氮化物或者氮氧化物，或者為Si、Al合金的氮化物或者氮氧化物，第一電介質層厚度為6～25nm。

3.根據權利要求1所述的具有三銀復合結構、低U值中性顏色低輻射鍍膜玻璃，其特征在于：復合吸收層為SnO_x層、ZnSn_xO_y層、ZnAlO_x層、TiO₂層中的至少兩個單層疊加構成的復合層，復合吸收層厚度為10～130nm。

4.根據權利要求1所述的具有三銀復合結構、低U值中性顏色低輻射鍍膜玻璃，其特征在于：第一復合電介質層、第二復合電介質層和第三復合電介質層為SiAlO_x層、ZnAlO_x層、TiO₂層中的至少兩個單層疊加構成的復合層，第一復合電介質層、第二復合電介質層和第三復合電介質層厚度均為12～80nm。

5.根據權利要求1所述的具有三銀復合結構、低U值中性顏色低輻射鍍膜玻璃，其特征在于：第一銀層、第二銀層和第三銀層為純度不低于99.99%的金屬銀層，或者銀的含氧膜層，第一銀層、第二銀層和第三銀層厚度均為2～12nm。

6.根據權利要求1所述的具有三銀復合結構、低U值中性顏色低輻射鍍膜玻璃，其特征在于：第一保護層、第二保護層和第三保護層為Ni的氧化物或者氮氧化物，或者為NiCr合金氧化物或者氮氧化物，第一保護層、第二保護層和第三保護層的厚度均為1～6nm。

7.根據權利要求1所述的具有三銀復合結構、低U值中性顏色低輻射鍍膜玻璃，其特征在于：頂層保護層為Si的氮化物或者氮氧化物，或者Si、Al合金的氮化物或者氮氧化物，頂層保護層厚度為20～100nm。