[實(shí)用新型]一種經(jīng)表面處理的低熔點(diǎn)金屬開關(guān)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201320225425.3
• 申請(qǐng)日: 2013-04-28
• 公開（公告）號(hào): CN203242547U
• 公開（公告）日: 2013-10-16
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 郭瑞;考笑梅
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 北京依米康散熱技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): H01H29/22
• 分類號(hào): H01H29/22;H01H1/02
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種低熔點(diǎn)金屬開關(guān)，其特征在于，其組成如下：

一外殼(1)；?

一電極(2)；所述電極(2)接于所述外殼(1)的一端；

一低熔點(diǎn)金屬(3)；所述低熔點(diǎn)金屬(3)填充于所述外殼(1)中；

一防粘附涂層(4)；所述涂層(4)位于所述外殼(1)內(nèi)壁。

2.按權(quán)利要求1所述的低熔點(diǎn)金屬開關(guān)，其特征在于，所述外殼(1)材質(zhì)可為玻璃、塑料及金屬。

3.按權(quán)利要求1所述的低熔點(diǎn)金屬開關(guān)，其特征在于，所述電極(2)材質(zhì)為銅、鋁或不銹鋼。

4.按權(quán)利要求1所述的低熔點(diǎn)金屬開關(guān)，其特征在于，所述低熔點(diǎn)金屬(3)為熔點(diǎn)在50oC以下的鎵、鎵基二元合金、鎵基多元合金、銦基合金、或鉍基合金。

5.按權(quán)利要求4所述的低熔點(diǎn)金屬開關(guān)，其特征在于，所述鎵基二元合金為鎵銦合金、鎵鉛合金或鎵汞合金。

6.按權(quán)利要求4所述的低熔點(diǎn)金屬開關(guān)，其特征在于，所述鎵基多元合金為鎵銦錫合金或鎵銦錫鋅合金。

7.按權(quán)利要求1所述的低熔點(diǎn)金屬開關(guān)，其特征在于，所述防粘附涂層(4)可為聚四氟乙烯、納米陶瓷、石蠟，用以提高所述低熔點(diǎn)金屬(3)的流動(dòng)性。

8.按權(quán)利要求1所述的低熔點(diǎn)金屬開關(guān)，其特征在于，所述防粘附涂層(4)可采用蒸鍍、高溫?zé)Y(jié)加工工藝實(shí)現(xiàn)。