[實用新型]一種可同時測量陶瓷磚吸水率和石膏保水率的真空裝置

有效

• 申請號: 201320216966.X
• 申請日: 2013-04-25
• 公開（公告）號: CN203191373U
• 公開（公告）日: 2013-09-11
• 發明（設計）人: 王占景;朱文獻;潘紅;周云;尹春聰;許靜亞
• 申請（專利權）人: 上海眾材工程檢測有限公司
• 主分類號: G01N33/38
• 分類號: G01N33/38;G01N5/02
• 代理公司: 上海智信專利代理有限公司 31002
• 代理人: 鄧琪

1.一種可同時測量陶瓷磚吸水率和石膏保水率的真空裝置，所述真空裝置包括：

真空系統，所述真空系統包括通過管道依次連通的真空容器（6），過渡瓶（7），壓力變送器（8），電磁真空閥（3）和真空泵（4）；以及

給排水系統，所述給排水系統包括通過水管與所述真空容器（6）相連的儲水器（9）；

其特征在于，所述真空裝置還包括抽濾系統，所述抽濾系統包括與所述過渡瓶（7）連接的抽濾瓶（2）以及安裝于抽濾瓶（2）瓶口的布氏漏斗（1）；其中，所述抽濾瓶（2）與過渡瓶（7）之間的管道上設有抽濾瓶排氣閥（11），所述真空容器（6）與過渡瓶（7）之間的管道上設有真空容器排氣閥（12）。

2.根據權利要求1所述的真空裝置，其特征在于，所述給排水系統包括分別設于所述真空容器（6）的頂端和底端的進水閥（14）和排水閥（15），所述儲水器（9）通過所述進水閥（14）和排水閥（15）與所述真空容器（6）連接。

3.根據權利要求1所述的真空裝置，其特征在于，所述真空容器（6）內設有用于插入陶瓷磚的試樣架。

4.根據權利要求1所述的真空裝置，其特征在于，所述真空容器（6）的壁上設有用于觀察水位的觀察窗（17）。

5.根據權利要求1所述的真空裝置，其特征在于，所述真空裝置還包括電器控制盒（13）。

6.根據權利要求1所述的真空裝置，其特征在于，所述真空容器（6）的頂端設有與大氣相通的進氣閥（16）。

7.根據權利要求1所述的真空裝置，其特征在于，所述真空裝置還包括用于固定所述真空系統、給排水系統以及抽濾系統的機箱（10）。

8.根據權利要求7所述的真空裝置，其特征在于，所述真空泵（4）和儲水箱（9）均設置于所述機箱（10）的內部。

9.根據權利要求1所述的真空裝置，其特征在于，所述真空裝置的底部設有滑輪（5）。

10.根據權利要求1所述的真空裝置，其特征在于，所述真空容器（6）是不銹鋼真空容器。