[實(shí)用新型]一種等位近距離薄膜沉積生長系統(tǒng)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201320213916.6
• 申請(qǐng)日: 2013-04-25
• 公開（公告）號(hào): CN203373416U
• 公開（公告）日: 2014-01-01
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 孔令杰
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 安徽貝意克設(shè)備技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/24
• 分類號(hào): C23C14/24
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種等位近距離薄膜沉積生長系統(tǒng)，它包括箱體，箱體上設(shè)有爐體，爐體兩端設(shè)有支撐桿，其特征在于：爐體的下端設(shè)有下法蘭，下法蘭上端通過下加熱臺(tái)支撐架固定連接有下加熱臺(tái)，下加熱臺(tái)上設(shè)有載物臺(tái)，爐體的上端設(shè)有上外接法蘭，上外接法蘭下端通過上加熱臺(tái)支撐架固定連接有上加熱臺(tái)，所述的支撐桿上設(shè)有旋轉(zhuǎn)支撐架，該旋轉(zhuǎn)支撐架包括轉(zhuǎn)動(dòng)連接在支撐桿上的固定座和固定螺栓，該固定座和固定螺栓之間垂直設(shè)有導(dǎo)向桿，導(dǎo)向桿上滑動(dòng)連接一升降桿，升降桿與上外接法蘭固定連接。

2.如權(quán)利要求1所述的一種等位近距離薄膜沉積生長系統(tǒng)，其特征在于：所述的爐體的下端還設(shè)有下進(jìn)水閥和下出水閥，爐體的上端還設(shè)有上進(jìn)水閥和上出水閥；所述的上加熱臺(tái)和下加熱臺(tái)內(nèi)均設(shè)有紅外加熱管；且所述的載物臺(tái)位于上加熱臺(tái)和下加熱臺(tái)之間。

3.如權(quán)利要求1所述的一種等位近距離薄膜沉積生長系統(tǒng)，其特征在于：所述箱體上分別設(shè)有溫度控制儀表、單向質(zhì)量流量計(jì)、復(fù)合真空計(jì)儀表、機(jī)械泵和分子泵。