[實用新型]一種基于β射線補償法測顆粒物濃度的裝置

有效

• 申請號: 201320206865.4
• 申請日: 2013-04-23
• 公開（公告）號: CN203299092U
• 公開（公告）日: 2013-11-20
• 發明（設計）人: 李保生;李正強;鄧遷;陳麗娟;邢金玉
• 申請（專利權）人: 合肥福瞳光電科技有限公司
• 主分類號: G01N15/06
• 分類號: G01N15/06
• 代理公司: 合肥和瑞知識產權代理事務所(普通合伙) 34118
• 代理人: 王挺

1.一種基于β射線補償法測顆粒物濃度的裝置，本裝置包括顆粒物采樣機構、濾帶傳送機構、β射線放射機構以及β射線接收測量機構；所述顆粒物采樣機構包括大氣采樣器（10）和氣泵（20），所述氣泵（20）通過管路與大氣采樣器（10）的出氣口相連通；所述β射線放射機構包括β射線放射源（30）；所述濾帶傳送機構包括濾帶（40），濾帶傳送機構還包括用于承托濾帶（40）并使濾帶（40）在大氣采樣器（10）出氣口和β射線放射源（30）放射出口之間往復移動的第一濾帶輪（41）和第二濾帶輪（42），其特征在于：本裝置還包括用于輔助測量顆粒物濃度的補償機構，所述補償機構包括厚度均勻連續變化的衰減控制部件（50），所述衰減控制部件（50）緊靠在β射線放射源（30）的放射出口端，所述補償機構還包括驅動衰減控制部件（50）動作以使得穿過衰減控制部件（50）的β射線強度均勻連續變化的動力單元。

2.根據權利要求1所述的基于β射線補償法測顆粒物濃度的裝置，其特征在于：所述衰減控制部件（50）為金屬制件。

3.根據權利要求2所述的基于β射線補償法測顆粒物濃度的裝置，其特征在于：所述衰減控制部件（50）為耐腐蝕的不銹鋼制件。

4.根據權利要求1或2或3所述的基于β射線補償法測顆粒物濃度的裝置，其特征在于：所述衰減控制部件（50）呈板狀，且板狀衰減控制部件（50）的與β射線放射源（30）的放射出口端相貼靠的一端為平面，與β射線放射源（30）的放射出口端相背離的一端為斜面。

5.根據權利要求4所述的基于β射線補償法測顆粒物濃度的裝置，其特征在于：所述動力單元包括自上而下穿過衰減控制部件（50）、并與衰減控制部件（50）固定聯接的轉軸（51），所述動力單元還包括驅動轉軸（51）轉動和/或平動的電動機。

6.根據權利要求4所述的基于β射線補償法測顆粒物濃度的裝置，其特征在于：所述衰減控制部件（50）的沿平行于轉軸（51）軸線的平面上的投影為圓形，所述轉軸（51）在圓形投影上的位置偏離該圓形的中心。