[實用新型]一種用于β射線法檢測顆粒物濃度的補償機構

有效

• 申請號: 201320206864.X
• 申請日: 2013-04-23
• 公開（公告）號: CN203299091U
• 公開（公告）日: 2013-11-20
• 發明（設計）人: 鄧遷;李保生;李正強;陳麗娟;邢金玉
• 申請（專利權）人: 合肥福瞳光電科技有限公司
• 主分類號: G01N15/06
• 分類號: G01N15/06
• 代理公司: 合肥和瑞知識產權代理事務所(普通合伙) 34118
• 代理人: 王挺

1.一種用于β射線法檢測顆粒物濃度的補償機構，其特征在于：包括厚度均勻連續變化的衰減控制部件（10），所述衰減控制部件（10）緊靠在β射線源（20）的放射出口端布置，所述補償機構還包括驅動衰減控制部件（10）動作以使得穿過衰減控制部件（10）的β射線強度均勻連續變化的動力單元。

2.根據權利要求1所述的用于β射線法檢測顆粒物濃度的補償機構，其特征在于：所述衰減控制部件（10）為金屬制件。

3.根據權利要求2所述的用于β射線法檢測顆粒物濃度的補償機構，其特征在于：所述衰減控制部件（10）為耐腐蝕的不銹鋼制件。

4.根據權利要求1或2或3所述的用于β射線法檢測顆粒物濃度的補償機構，其特征在于：所述衰減控制部件（10）呈板狀，且板狀衰減控制部件（10）的與β射線源（20）的放射出口端相貼靠的一端為平面，與β射線源（20）的放射出口端相背離的一端為斜面。

5.根據權利要求4所述的用于β射線法檢測顆粒物濃度的補償機構，其特征在于：所述動力單元包括自上而下穿過衰減控制部件（10）、并與衰減控制部件（10）固定聯接的軸部（11），所述動力單元還包括驅動軸部（11）轉動和/或平動的電機。

6.根據權利要求5所述的用于β射線法檢測顆粒物濃度的補償機構，其特征在于：所述衰減控制部件（10）的沿平行于軸部（11）軸線的平面上的投影為圓形，所述軸部（11）在圓形投影上的位置偏離該圓形的中心。