[實用新型]一種微波真空裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201320201697.X
• 申請日: 2013-04-19
• 公開（公告）號: CN203249488U
• 公開（公告）日: 2013-10-23
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 劉元月;李蔚霞;郭凱雄
• 申請（專利權(quán)）人: 湖南陽東微波科技有限公司
• 主分類號: F27B5/05
• 分類號: F27B5/05;F27B5/06;F27B5/18
• 代理公司: 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227
• 代理人: 魏曉波

技術(shù)領(lǐng)域

本實用新型涉及微波真空技術(shù)技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種微波真空裝置。

背景技術(shù)

目前市場上有使用微波進行加熱的真空裝置，是一種由內(nèi)向外、迅速而均勻的體加熱方式。需要加熱的物體在微波電磁能的作用下，材料內(nèi)部分子或離子的動能增加，使燒結(jié)活化能降低，擴散系數(shù)提高，可進行低溫快速燒結(jié)，使晶粒來不及長大就己被燒結(jié)。比如使用微波進行加熱的微波真空窯爐用于硬質(zhì)合金的燒結(jié)時，可使硬質(zhì)合金的硬度、抗彎強度和矯頑磁力均獲提高。

微波真空裝置包括微波發(fā)生器、腔體以及設(shè)置在微波發(fā)生器和腔體之間的波導(dǎo)管，一般情況下，微波真空窯爐的真空密封面在波導(dǎo)管中，該真空密封面只有一個，那么真空密封面朝向微波發(fā)生器的一側(cè)受到的是大氣壓的壓強，大概在101.325KPa左右（101.325KPa為標(biāo)準大氣壓值），而朝向腔體的一側(cè)受到的是腔體內(nèi)部的壓強。

微波真空裝置容易出現(xiàn)微波打火現(xiàn)象。微波打火引起的等離子體一是消耗了微波能量，二是等離子體相當(dāng)于導(dǎo)體，起到反射微波的作用，結(jié)果使微波能量不能傳入爐內(nèi)，波導(dǎo)管、磁控管嚴重發(fā)熱，起不到加熱物料的作用。

科學(xué)研究發(fā)現(xiàn)空氣中典型擊穿場強與壓力的關(guān)系如附圖3所示，圖3為空氣中典型擊穿場強與壓力的關(guān)系圖。從圖3中可以看到，在10Pa到100Pa之間空氣擊穿場強E最小，那么微波很容易發(fā)生擊穿現(xiàn)象，也就是微波打火現(xiàn)象，一般的微波真空窯爐工作壓力恰好在10Pa到100Pa之間，那么真空密封面朝向腔體的那一側(cè)是非常容易發(fā)生微波打火現(xiàn)象的。

因此，如何提供一種微波真空裝置，以防止微波打火現(xiàn)象的發(fā)生，是目前本領(lǐng)域技術(shù)人員亟待解決的技術(shù)問題。

實用新型內(nèi)容

有鑒于此，本實用新型的目的在于提供一種微波真空裝置，以防止微波打火現(xiàn)象的發(fā)生。

為了達到上述目的，本實用新型提供如下技術(shù)方案：

一種微波真空裝置，包括微波發(fā)生器、腔體以及設(shè)置在所述微波發(fā)生器和腔體之間的波導(dǎo)管，還包括大介質(zhì)片和小介質(zhì)片，所述大介質(zhì)片密封設(shè)置在所述腔體中，所述小介質(zhì)片密封設(shè)置在所述波導(dǎo)管與所述微波發(fā)生器之間，其中，所述大介質(zhì)片的面積大于所述小介質(zhì)片的面積，所述大介質(zhì)片和所述小介質(zhì)片之間形成第一密封空間。

優(yōu)選的，上述波導(dǎo)管與所述微波發(fā)生器之間設(shè)置有圓盤窗，所述小介質(zhì)片設(shè)置在所述圓盤窗中。

優(yōu)選的，上述大介質(zhì)片和/或所述小介質(zhì)片為石英片或者聚四氟乙烯板或者陶瓷板。

優(yōu)選的，上述大介質(zhì)片和/或所述小介質(zhì)片為平板或者弧形板。

優(yōu)選的，上述小介質(zhì)片與所述大介質(zhì)片之間設(shè)置有第一氣壓調(diào)節(jié)裝置。

優(yōu)選的，上述第一氣壓調(diào)節(jié)裝置為真空泵。

優(yōu)選的，上述所述第一氣壓調(diào)節(jié)裝置與所述第一密封空間連通的通道設(shè)置有第一開閉開關(guān)。

優(yōu)選的，上述大介質(zhì)片和所述腔體之間形成第二密封空間，所述第二密封空間設(shè)置有真空裝置，所述真空裝置為真空泵。

優(yōu)選的，上述小介質(zhì)片與所述微波發(fā)生器之間設(shè)置有激勵腔。

本實用新型提供的微波真空裝置，包括微波發(fā)生器、腔體以及設(shè)置在所述微波發(fā)生器和腔體之間的波導(dǎo)管，還包括大介質(zhì)片和小介質(zhì)片，所述大介質(zhì)片密封設(shè)置在所述腔體中，所述小介質(zhì)片密封設(shè)置在所述波導(dǎo)管與所述微波發(fā)生器之間，其中，所述大介質(zhì)片的面積大于所述小介質(zhì)片的面積，所述大介質(zhì)片和所述小介質(zhì)片之間的氣壓小于10Pa或者大于100Pa。

其中，大介質(zhì)片、波導(dǎo)管和小介質(zhì)片三者形成一個密封的空間，即第一密封空間，大介質(zhì)片與腔體形成另一個密封空間，即第二密封空間，大介質(zhì)片和小介質(zhì)片之間的氣壓小于10Pa或者大于100Pa，即第一密封空間的氣壓小于10Pa或者大于100Pa，小介質(zhì)片朝向微波發(fā)生器的一側(cè)為大氣壓，大概在101.325KPa左右，當(dāng)空氣壓力小于10Pa或者大于100Pa時，空氣擊穿場強E反而增大，那么第一密封空間不會發(fā)生微波打火，而大介質(zhì)片朝向腔體的一側(cè)的氣壓雖然為10Pa到100Pa之間，但是大介質(zhì)片的面積要大于小介質(zhì)片的面積，其微波場強較小，那么也不會發(fā)生微波打火，從而防止了微波打火現(xiàn)象的發(fā)生。

附圖說明

為了更清楚地說明本實用新型實施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖是本實用新型的一些實施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。

圖1為本實用新型實施例提供的微波真空裝置的第一種具體實施方式的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本實用新型實施例提供的微波真空裝置的第二種具體實施方式的結(jié)構(gòu)示意圖；