[實用新型]一種用于生產高強度超薄浮法玻璃的全電熔玻璃熔窯

有效

• 申請號: 201320193835.4
• 申請日: 2013-04-17
• 公開（公告）號: CN203200156U
• 公開（公告）日: 2013-09-18
• 發明（設計）人: 李紅霞;王自強;郭衛;陳琰;張紅霞
• 申請（專利權）人: 中國洛陽浮法玻璃集團有限責任公司
• 主分類號: C03B18/16
• 分類號: C03B18/16;C03B5/02
• 代理公司: 洛陽明律專利代理事務所 41118
• 代理人: 盧洪方

1.?一種用于生產高強度超薄浮法玻璃的全電熔玻璃熔窯，其特征在于：所述的全電熔玻璃熔窯包括有熔化池（1）、導流室（5）、上升道（3）、均化澄清室（6）和工作室（4）；所述的導流室（5）設置在熔化池（1）一側的底面上；所述的導流室（5）通過上升道（3）與均化澄清室（6）連通；所述的上升道（3）為向上傾斜的結構；所述的上升道（3）與均化澄清室（6）之間為逐漸加寬的喇叭口結構；所述均化澄清室（6）的寬度是導流室（5）寬度的2~3倍；所述的工作室（4）設置在均化澄清室（6）后部，且所述的工作室（4）與均化澄清室（6）位于同一個平面上；所述的導流室（2）包括有底磚（11）、側柱（8）、側墻（7）和弓形碹（10）；導流室（5）的底面高于熔化池的底面200mm~300mm；導流室的底磚（11）設置在熔化池（1）底面上，所述底磚（11）的高度為200mm~300mm；導流室的側柱（8）設置在多塊所述底磚（11）的兩側；所述的側墻（7）位于兩個所述側柱（8）的外側；所述弓形碹（10）的兩端連接兩個所述的側柱（8）；所述弓形碹（10）的最高點與熔化池（1）的連接點處于熔化池高度的1/5~1/7，處；導流室的縱切面面積與熔化池的橫截面面積之比為1：10~20；導流室（5）與均化澄清室（6）之間的所述上升道（3）的寬度與導流室（5）寬度一致，上升道（3）傾斜角度為35°~70，所述上升道的底面為由多個圓弧組成的起伏狀底面。