[實用新型]石膏模型室反向下水式灌模裝置

有效

• 申請號: 201320172970.0
• 申請日: 2013-04-09
• 公開（公告）號: CN203149994U
• 公開（公告）日: 2013-08-21
• 發明（設計）人: 蔡毅;宋宇哲;陳金銳;李紅;張振波;石璐
• 申請（專利權）人: 蔡毅
• 主分類號: G09B25/02
• 分類號: G09B25/02
• 代理公司: 吉林長春新紀元專利代理有限責任公司 22100
• 代理人: 王怡敏

1.一種石膏模型室反向下水式灌模裝置，其特征在于：一、二、三級水池（1、2、3）置于灌模室中央，對立兩排，在一、二、三級水池（1、2、3）的側邊分別設置伸縮式操作臺（4），在對立兩排水池中間設置風干平臺（5），在風干平臺（5）的兩側設置水源孔（6）與水龍頭連接；在一、二級水池（1、2）的一端分別設置過濾下水口Ⅰ、Ⅱ（7、8），在二、三級水池（2、3）的底面分別設置過濾下水口；所述一級水池的下水口端高于另一端1~3cm。

2.根據權利要求1所述的石膏模型室反向下水式灌模裝置，其特征在于：所述的過濾下水口Ⅰ（7）距離一級水池（1）底面的高度為0cm。

3.根據權利要求1所述的石膏模型室反向下水式灌模裝置，其特征在于：所述的過濾下水口Ⅱ（8）距離二級水池（2）底面的高度為5cm。