[實用新型]高壓電路中低壓器件的高壓阱版圖結構有效
| 申請號: | 201320168792.4 | 申請日: | 2013-04-07 |
| 公開(公告)號: | CN203150554U | 公開(公告)日: | 2013-08-21 |
| 發明(設計)人: | 閆琳靜;劉菁;楊森林;單闖 | 申請(專利權)人: | 北京經緯恒潤科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L29/06 | 分類號: | H01L29/06;H01L29/78 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產權代理有限公司 11227 | 代理人: | 王寶筠 |
| 地址: | 100101 北京*** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 高壓 電路 低壓 器件 版圖 結構 | ||
1.一種高壓電路中低壓器件的高壓阱版圖結構,包括P型襯底和N阱,其特征在于,所述N阱的側面和P型襯底之間設有滿足高壓規則的阻擋層;所述低壓器件設置于所述N阱上;所述N阱的阱電位為高壓。
2.根據權利要求1所述的高壓阱版圖結構,其特征在于,所述低壓器件為低壓P型場效應管;所述低壓P型場效應管的源極和漏極分別為設置在所述N阱上互不接觸的的P型摻雜;所述低壓P型場效應管的柵極為多晶硅,設置于源極和漏極之間的溝道上。
3.根據權利要求2所述的高壓阱版圖結構,其特征在于,所述低壓P型場效應管的個數為一個或多個,且每個低壓P型場效應管的襯底電位相同。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于北京經緯恒潤科技有限公司,未經北京經緯恒潤科技有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201320168792.4/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 同類專利
- 專利分類





