[實用新型]一種化學反應過程控制仿真實訓裝置

有效

• 申請號: 201320167946.8
• 申請日: 2013-04-07
• 公開（公告）號: CN203134234U
• 公開（公告）日: 2013-08-14
• 發明（設計）人: 楊潤賢;王斌
• 申請（專利權）人: 揚州工業職業技術學院
• 主分類號: G09B23/24
• 分類號: G09B23/24
• 代理公司: 揚州市錦江專利事務所 32106
• 代理人: 江平

1.一種化學反應過程控制仿真實訓裝置，包括DCS控制柜、PLC控制柜、化學反應工藝仿真立體框架組，所述PLC控制柜設置在所述DCS控制柜與所述化學反應工藝仿真立體框架組之間，所述PLC控制柜通過連接電纜分別與DCS控制柜、化學反應工藝仿真立體框架組連接，其特征在于所述化學反應工藝仿真立體框架組包括一個或多個立體框架拼接、組合，所述立體框架包括底部平臺、豎直布置的不銹鋼網孔板，所述不銹鋼網孔板固定在所述底部平臺上，在所述不銹鋼網孔板與所述底部平臺之間設置支撐斜梁，所述支撐斜梁的兩端分別固定在所述不銹鋼網孔板與所述底部平臺上，在所述底部平臺的下方固定連接四個萬象滾輪，在所述不銹鋼網孔板上設置至少三種設備固定架，所述設備固定架用于固定儀表、設備、管路；所述各立體框架分別通過信號線路與所述PLC控制柜對應連接。

2.根據權利要求1所述的一種化學反應過程控制仿真實訓裝置，其特征在于所述的PLC控制柜包括柜體，在所述柜體上設置上層控制區、第二層PLC信號接收區、第三層現場設備信號區、第四層變頻器設備區，所述上層控制區包括柜體電源空氣開關、工作指示燈、加熱電源輸出及指示儀表、控制按鈕、設備電源開關、PLC控制系統模塊；所述PLC信號接收區包括若干信號接口端子；所述現場設備信號區包括信號接口端子；所述變頻器設備區包括流量、液位控制變頻器。

3.根據權利要求1所述的一種化學反應過程控制仿真實訓裝置，其特征在于在所述PLC控制柜與所述DCS控制柜的下端分別設置一塊底部平臺，所述PLC控制柜、DCS控制柜分別固定在所述底部平臺上，在所述底部平臺的下方固定連接四個萬象滾輪。

4.根據權利要求1所述的一種化學反應過程控制仿真實訓裝置，其特征在于所述的立體框架為水槽蓄水框架或供水水箱液位框架或緩沖罐壓力框架或反應釜綜合反應框架或鍋爐溫度框架或滯后水箱溫度框架。