[實用新型]一種用于噴嘴維護中的隔熱裝置

有效

• 申請號: 201320157860.7
• 申請日: 2013-04-01
• 公開（公告）號: CN203174198U
• 公開（公告）日: 2013-09-04
• 發明（設計）人: 沈建飛
• 申請（專利權）人: 中芯國際集成電路制造（北京）有限公司
• 主分類號: C23C16/455
• 分類號: C23C16/455
• 代理公司: 上海光華專利事務所 31219
• 代理人: 余明偉

技術領域

本實用新型涉及低壓化學氣相沉積技術領域，特別是涉及低壓化學氣相沉積中的附件中的輔助設備領域，具體為一種用于噴嘴維護中的隔熱裝置。

背景技術

低壓化學氣相沉積(LPCVD)在低于一個大氣壓的條件下進行的化學氣相沉積，低壓化學氣相沉積技術被廣泛用于沉積多晶硅及各種無定形介質膜。LPCVD法具有生長速度快，成膜致密、均勻，裝片容量大等一系列優勢。因此，多晶硅及氮化硅膜的沉積現已基本采用LPCVD法。

低壓化學氣相沉積裝置通常由下列部件組成；反應物供應系統，氣相反應器，氣流傳送系統。反應物多為金屬氯化物，先被加熱到一定溫度，達到足夠高的蒸汽壓，用載氣（一般為Ar或H2）送入反應器。如果某種金屬不能形成高壓氯化物蒸汽，就代之以有機金屬化合物。在反應器內，被涂材料或用金屬絲懸掛，或放在平面上，或沉沒在粉末的流化床中，或本身就是流化床中的顆粒?；瘜W反應器中發生，產物就會沉積到被涂物表面，廢氣（多為HCl或HF）被導向堿性吸收或冷阱。

在LPCVD多晶硅薄膜淀積工藝中，常需要定期對氣相反應器中的噴嘴進行保養，進行定期更換以防止斷裂。但是由于為了不產生多晶硅薄膜的剝落，對氣相反應器中的噴嘴的保養或更換需要在攝氏300C以上的高溫作業。維護安裝人員站在氣相反應器的機臺下面進行拆除噴嘴和安裝噴嘴的作業。這樣就存在下面兩個問題：

1.大量的氣相反應器中內管內的高溫會向下輻射，導致作業人員不能長時間站立在氣相反應器下面，同時站立在氣相反應器下面也存在可能被燙傷的危險。

2.作業時有可能拆除下來的噴嘴會斷裂而導致下面作業人員受傷。

目前在LPCVD對噴嘴做保養維護的時候，普遍的做法是手上戴隔熱手套進行拆除和安裝，但是隔熱手套只能保護手部不會被燙傷。因此需要一種隔熱裝置來確保在對噴嘴做保養維護的時候下面作業人員的安全作業。

實用新型內容

鑒于以上所述現有技術的缺點，本實用新型的目的在于提供一種用于噴嘴維護中的隔熱裝置，用于解決現有技術中在對噴嘴做保養維護的時存在的不能很好保護作業人員人身安全的問題。

為實現上述目的及其他相關目的，本實用新型提供一種用于噴嘴維護中的隔熱裝置，安裝在氣相反應器中，包括：隔熱盤，邊緣具有一用于所述氣相反應器中的噴嘴通過、為所述噴嘴的安裝或拆卸預留空間的缺口；所述隔熱盤的中心設有一通孔；玻璃片，與所述隔熱盤中的通孔相匹配以通過該玻璃片察看噴嘴的狀態；進水連接頭，設置在所述隔熱盤的表面，用于連接進水管和機臺進水接頭；出水連接頭，設置在所述隔熱盤的表面，用于連接出水管和機臺出水接頭。

可選地，所述隔熱盤外緣設有用于與所述氣相反應器連接固定的螺絲孔。

可選地，所述螺絲孔的數量為4個。

可選地，所述隔熱盤中心的通孔為方形，所述玻璃片為與所述通孔相配的方形玻璃片。

可選地，所述隔熱盤中心的通孔為圓形，所述玻璃片為與所述通孔相配的圓形玻璃片。

可選地，所述通孔的面積小于所述通孔外緣和所述隔熱盤外緣所形成的面積。

可選地，所述缺口為弧形口。

可選地，所述缺口為方形口。

可選地，所述隔熱盤為由發泡涂料、泡沫塑料、超細玻璃棉、高硅氧棉或真空隔熱材料形成的隔熱板。

如上所述，本實用新型的一種用于噴嘴維護中的隔熱裝置，具有以下有益效果：

1、本實用新型通過設計一個具有隔熱功能的隔熱裝置，并將具有隔熱功能的隔熱裝置安裝到內管支架中，阻隔內管輻射下來的熱量，避免了使站在氣相反應器下面的作業人員避免高溫帶來的危險和傷害，所以本實用新型有效解決了現有技術中在對噴嘴做保養維護的時存在的不能很好保護作業人員人身安全的問題。

2、本實用新型的隔熱裝置設有一個透明的玻璃片，使得站在氣相反應器下面的作業人員可以隨時觀察氣相反應器內噴嘴的狀況。

3、本實用新型結構簡單，不需要額外的隔熱材料，成本低。

4、本實用新型的設有與氣相反應器中機座上的冷卻水接頭相配的冷卻水接頭，提高冷卻效果。

附圖說明

圖1顯示為本實用新型的一種用于噴嘴維護中的隔熱裝置的安裝使用示意圖。

圖2顯示為本實用新型的一種用于噴嘴維護中的隔熱裝置的結構示意圖。

元件標號說明

1?????隔熱裝置

11????隔熱盤

12????玻璃片

13????缺口

14????進水連接頭

15????出水連接頭

16????螺絲孔

2?????氣相反應器