[實(shí)用新型]晶砣晶面定向裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201320141802.5
• 申請(qǐng)日: 2013-03-26
• 公開（公告）號(hào): CN203171857U
• 公開（公告）日: 2013-09-04
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 于新現(xiàn);李斗
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 西安神光安瑞光電科技有限公司;西安神光皓瑞光電科技有限公司
• 主分類號(hào): B28D5/00
• 分類號(hào): B28D5/00;H01L21/68
• 代理公司: 上海思微知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31237
• 代理人: 周耀君

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及晶體制造技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種晶砣晶面定向裝置。

背景技術(shù)

目前在LED生產(chǎn)制造領(lǐng)域或半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，通常使用X射線定向儀對(duì)晶砣進(jìn)行晶面的定向，例如對(duì)C面、A面、R面定向。以C面為例，現(xiàn)有技術(shù)借助C面定向儀對(duì)晶砣定向，對(duì)C面整體平整度要求較高，因此晶面平整度會(huì)影響X射線的路徑，導(dǎo)致不能全方位定向的問題；反之需要對(duì)晶坨定位面進(jìn)行平磨或平切的加工，以得到相對(duì)平面進(jìn)行定向；從而導(dǎo)致制程多、效率降低。

實(shí)用新型內(nèi)容

本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題是提供了一種晶砣晶面定向裝置，以簡(jiǎn)易的方法、解決了晶體晶面整體不規(guī)則，影響X射線路徑，不利于全方位定向的問題，同時(shí)減少多晶坨加工流程。

為了解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型的技術(shù)方案是：一種晶砣晶面定向裝置，包括：二維數(shù)顯傾角儀，放置于晶砣晶面上(利用晶體生長(zhǎng)的特征：晶體固有的C軸任意小平面、進(jìn)行準(zhǔn)確的定向)；也可做為X射線定向儀前置預(yù)定向處理，方便、快速的在夾具上固定晶坨；

進(jìn)一步的，晶砣晶面定向裝置還包括平面引出元件，所述平面引出元件設(shè)置于所述晶砣晶面上，所述平面引出元件上設(shè)置所述二維數(shù)顯傾角儀。

進(jìn)一步的，所述平面引出元件的第一面設(shè)置在所述晶砣內(nèi)，所述平面引出元件的第二面與所述二維數(shù)顯傾角儀接觸，所述第一面平行于所述第二面。

進(jìn)一步的，所述X射線定向儀位于所述晶砣的上方并與所述晶砣接觸。

本實(shí)用新型提供的晶砣晶面定向裝置，通過二維數(shù)顯傾角儀對(duì)晶砣進(jìn)行晶面的水平面定向，再通過X射線定向儀檢驗(yàn)定向精度。晶砣晶面定向裝置能夠提高晶體的定向效率，并且提高定向精度。

附圖說明

圖1a為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的晶砣晶面定向裝置的立體結(jié)構(gòu)示意圖；

圖1b為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的晶砣晶面定向裝置的立體分解結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

以下結(jié)合附圖和具體實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型提出的一種晶砣晶面定向裝置作進(jìn)一步詳細(xì)說明。根據(jù)下面說明和權(quán)利要求書，本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)和特征將更清楚。需說明的是，附圖均采用非常簡(jiǎn)化的形式且均使用非精準(zhǔn)的比率，僅用于方便、明晰地輔助說明本實(shí)用新型實(shí)施例的目的。

本實(shí)用新型的核心思想在于，本實(shí)用新型提供的晶砣晶面定向裝置，通過二維數(shù)顯傾角儀對(duì)晶砣進(jìn)行晶面的水平面定向，再通過X射線定向儀檢驗(yàn)定向精度。晶砣晶面定向裝置能夠提高晶體的定向效率，并且提高定向精度。

圖1a為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的定位邊固定裝置的立體結(jié)構(gòu)示意圖；圖1b為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的晶砣晶面定向裝置的立體分解結(jié)構(gòu)示意圖。參照?qǐng)D1a以及圖1b，本實(shí)用新型提供的一種晶砣晶面定向裝置，包括：二維數(shù)顯傾角儀11，放置于晶砣12晶面上；X射線定向儀（圖中未示出），放置于所述晶砣12的上方。

在本實(shí)施例中，由于晶砣12的晶面上具有一凹處13，該凹處13不利于二維數(shù)顯傾角儀11的放置，因此，晶砣晶面定向裝置還包括平面引出元件21，所述平面引出元件21設(shè)置于所述晶砣12的晶面上，平面引出元件21與晶面接觸的部分，其形狀與晶面上的凹處13相匹配，所述平面引出元件21上設(shè)置所述二維數(shù)顯傾角儀11。所述平面引出元件21的第一面設(shè)置在所述晶砣12內(nèi)，所述平面引出元件21的第二面與所述二維數(shù)顯傾角儀11接觸，所述第一面平行于所述第二面。借助于所述平面引出元件21使二維數(shù)顯傾角儀11放置在晶砣12上更平穩(wěn)，提高晶面定向的精度。

在使用二維數(shù)顯傾角儀11進(jìn)行初步定向后，利用X射線定向儀檢驗(yàn)定向精度，所述X射線定向儀位于所述晶砣12的上方并與所述晶砣12接觸。

顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對(duì)實(shí)用新型進(jìn)行各種改動(dòng)和變型而不脫離本實(shí)用新型的精神和范圍。這樣，倘若本實(shí)用新型的這些修改和變型屬于本實(shí)用新型權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本實(shí)用新型也意圖包含這些改動(dòng)和變型在內(nèi)。