[實用新型]基片加熱爐

有效

• 申請號: 201320140023.3
• 申請日: 2013-03-26
• 公開（公告）號: CN203238350U
• 公開（公告）日: 2013-10-16
• 發明（設計）人: 吳向方;梁玉生;吳煦
• 申請（專利權）人: 蘇州圓芯光機電科技有限公司
• 主分類號: C30B35/00
• 分類號: C30B35/00;C23C16/46;C23C14/00
• 代理公司: 南京縱橫知識產權代理有限公司 32224
• 代理人: 董建林

技術領域

本實用新型涉及一種真空薄膜沉積用基片加熱爐。

背景技術

物質在一定溫度、壓力、濃度、介質、pH等條件下由氣相、液相、固相轉化，形成特定線度尺寸晶體的過程稱為晶體生長。其中，對于溫度的控制，通常會利用到基片加熱爐。加熱溫度均勻的加熱爐可以有效控制晶體的生長速度和質量。目前，常用的基片加熱爐普遍存在加熱絲布局不合理，導致加熱區域不夠均勻，不能分區控制等缺陷。

實用新型內容

針對現有技術中的上述缺陷，本實用新型提供了一種電加熱絲布局合理的基片加熱爐。

本實用新型提供一種基片加熱爐，其包括圓筒形的爐體，所述爐體外壁設置有隔熱層，其特征在于：所述爐體內設置與所述爐體同軸的環形電加熱絲。

優選的，所述電加熱絲呈螺旋形設置在所述爐體內側。

優選的，所述爐體內呈螺旋形設置有多組所述電加熱絲。

優選的，所述爐體內設置有多組所述電加熱絲，每組所述電加熱絲均沿所述爐體內壁呈環形設置，且呈S形沿所述爐體軸線方向延伸。?

優選的，所述爐體架設于耐高溫的底座上。

本實用新型的基片加熱爐優化了電加熱絲的布局，設置多組電加熱絲，且環形設置在爐體內。本實用新型具有加熱均勻，其還可進一步通過調節不同組的電加熱絲，來實現各區域溫度的精細調節等優點。?

附圖說明

下面結合附圖和具體實施方式對本實用新型作進一步詳細的說明。

圖1是本實用新型第一實施例的縱向剖視圖；

圖2是本實用新型第一實施例的俯視圖；

圖3是本實用新型第二實施例的俯視圖;

圖4為圖3中電加熱絲的局部立體結構示意圖。

具體實施方式

為了使本技術領域的人員更好地理解本實用新型方案，并使本實用新型的上述目的、特征和優點能夠更加明顯易懂，下面結合實施例及實施例附圖對本實用新型作進一步詳細的說明。

如圖1至圖3所示，本實用新型的一種基片加熱爐，包括架設于耐高溫的底座10上的爐體12，該爐體12為圓筒形，爐體12外壁設置有隔熱層14。爐體12內設置與爐體12同軸的環形電加熱絲16，電加熱絲16的兩端通過電極（未圖示）連接電源（未圖示）。以電加熱的方式進行加熱，可以實現快速加熱和降溫。

本實用新型第一實施例中，電加熱絲16沿爐體12內側螺旋形沿爐體12的軸線設置，即類似彈簧的結構。當然還可以根據需要設置多組這樣的螺旋形的電加熱絲16，同軸設置在爐體12內，以便于調節爐內的溫度分布及提高加熱溫度。

本實用新型第二實施例中，爐體12內同樣設置有多組電加熱絲16，以便于調節爐內的溫度分布及提高加熱溫度。每組電加熱絲16均沿爐體12內壁呈環形（半圓或弧形）設置，且呈S形沿爐體12軸線方向延伸；其結構可如圖4所示。當然，爐體12內也可以沿爐體12徑向設置同軸設置多組這樣的電加熱絲16，以便精細地控制爐內不同區域的溫度。即通過控制不同組電加熱絲的開關和電壓，來控制不同位置的電加熱絲發熱量。

以上所述，僅為本實用新型的具體實施方式。本實用新型的保護范圍并不局限于此，任何熟悉本技術領域的技術人員在本實用新型揭露的技術范圍內，可輕易想到的變化或替換，都應涵蓋在本實用新型的保護范圍之內。因此，本實用新型的保護范圍應該以權利要求所界定的保護范圍為準。