[實用新型]高純水的制備裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201320134873.2 | 申請日: | 2013-03-22 |
| 公開(公告)號: | CN203173920U | 公開(公告)日: | 2013-09-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 竇欽寶;徐業(yè)開;涂川俊;夏金童;于坤 | 申請(專利權(quán))人: | 山東前昊炭素有限公司 |
| 主分類號: | C02F9/04 | 分類號: | C02F9/04;C02F1/42;C02F1/44;C02F103/04 |
| 代理公司: | 青島發(fā)思特專利商標代理有限公司 37212 | 代理人: | 耿霞 |
| 地址: | 256401 山東省*** | 國省代碼: | 山東;37 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 高純水 制備 裝置 | ||
1.一種高純水的制備裝置,其特征在于:包括通過管道依次橫向連接的原水池(1)、一級過濾器(2)、二級過濾器(3)、反滲透室(4)、混床(5)和純水箱(6),其中,反滲透室(4)包括兩個水連管(7),水連管(7)之間橫向設(shè)置反滲透膜(8),一個水連管(7-1)與二級過濾器(3)相連,另一個水連管(7-2)與混床(5)相連。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高純水的制備裝置,其特征在于:一級過濾器(2)和二級過濾器(3)內(nèi)部包含碳素。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高純水的制備裝置,其特征在于:反滲透膜(8)設(shè)置5-10個。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高純水的制備裝置,其特征在于:混床(5)內(nèi)含有陽離子樹脂和陰離子樹脂。
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