[實用新型]填料塔用再分布器和填料塔有效
| 申請號: | 201320130257.X | 申請日: | 2013-03-21 |
| 公開(公告)號: | CN203183724U | 公開(公告)日: | 2013-09-11 |
| 發明(設計)人: | 柴田修作;濱村隆史;池田司;折笠貴則;松崎光浩 | 申請(專利權)人: | 株式會社吳羽 |
| 主分類號: | B01D3/14 | 分類號: | B01D3/14;B01D3/32;C07C21/08;C07C17/383 |
| 代理公司: | 北京市中咨律師事務所 11247 | 代理人: | 李照明;段承恩 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 填料 再分 | ||
1.一種填料塔用再分布器,是設置在填料塔的填料層下方的再分布器,其特征在于,
該再分布器具有引水槽狀的環狀主體部和引水槽狀的分岔部,該環狀主體部以與所述填料塔的內壁接觸的狀態環繞配置,該分岔部從該環狀主體部向塔內中央部延伸,該分岔部的端部具有排液口。
2.如權利要求1所述的填料塔用再分布器,其特征在于,所述分岔部傾斜成其設置有所述排液口的端部側為其在所述環狀主體部上的固定位置的下方。
3.如權利要求1或2所述的填料塔用再分布器,其特征在于,多個所述分岔部以等間隔固定在所述環狀主體部上。
4.如權利要求1或2所述的填料塔用再分布器,其特征在于,在將由所述環狀主體部的外周圍起來面積設為S1、將距離所述環狀主體部的中心為半徑R的圓區域P的面積設為S2時,在以滿足數學式1的圓區域P作為橫截面的圓筒空間內配置所述排液口,
數學式1:0.01≦S2/S1≦0.90。
5.如權利要求3所述的填料塔用再分布器,其特征在于,在將由所述環狀主體部的外周圍起來面積設為S1、將距離所述環狀主體部的中心為半徑R的圓區域P的面積設為S2時,在以滿足數學式1的圓區域P作為橫截面的圓筒空間內配置所述排液口,
數學式1:0.01≦S2/S1≦0.90。
6.一種填料塔,是配置有權利要求1~5的任一項所述的填料塔用再分布器的填料塔,其特征在于,所述填料塔的塔內高度H和塔內徑D之比H/D為20以上。
7.如權利要求6所述的填料塔,其特征在于,所述填料塔具有填料層,該填料層載置在支持部上,該支持部載置在固定于所述填料塔的內壁上的支持部用架上,
所述支持部用架的內側邊緣位于以下區域的正上方的空間內,所述區域為所述環狀主體部和從該環狀主體部向內側延長恰好為其槽的寬度量的區域。
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