[實用新型]機械手定位裝置

有效

• 申請號: 201320126868.7
• 申請日: 2013-03-19
• 公開（公告）號: CN203205395U
• 公開（公告）日: 2013-09-18
• 發明（設計）人: 姜葳;廉杰;蘆佳
• 申請（專利權）人: 沈陽拓荊科技有限公司
• 主分類號: H01L21/68
• 分類號: H01L21/68;C23C16/44
• 代理公司: 沈陽維特專利商標事務所(普通合伙) 21229
• 代理人: 甄玉荃

技術領域

本實用新型涉及一種機械手定位裝置，主要應用于等離子體增強化學氣象沉積設備中，用于完成真空機械手在反應腔和加熱盤的定位，或在過渡腔和設備前端模塊機械手的定位。屬于半導體薄膜沉積應用及制備技術領域。

背景技術

在12寸轉8寸的PECVD（等離子體增強化學氣象沉積）設備中，EFEM機械手的手指是經處理的一頭為圓角的平板，該平板在和真空機械手手指交接時，為了避免干涉，真空機械手手指需要做成叉形的。在進行定位時，傳統方法是在EFEM的手指上放一片晶圓，伸入LoadLock真空機械手的上方，目視晶圓與下面手指四周的距離大致相等時，定位完成。真空機械手與加熱盤定位時，在真空機械手上放一片晶圓，手指伸入加熱盤上方，使晶圓與加熱盤同心時，定位完成。由于晶圓尺寸較大，兩種定位方法都需要反復觀察晶圓四周的位置，由于觀察角度不同等原因，而造成定位誤差較大，其工作效率也不高。

發明內容

本實用新型以解決上述問題為目的，主要解決現有等離子體增強化學氣象沉積設備定位精度不高，效率低下的問題。

為實現上述目的，本實用新型采用下述技術方案：機械手定位裝置，該裝置包括對中塊主體（1），對中塊主體（1）的四個邊中有三條邊制有擋邊，上述對中塊主體（1）上制有工藝孔（3），在工藝孔（3）間制有觀察孔（4）。

上述工藝孔（3）為長方形；上述觀察孔（4）為圓形。

上述對中塊主體（1）的四個邊中的擋邊，其相對的兩個短邊上制有長擋邊（2），在另外的一條長邊上制有短擋邊（11）。

上述對中塊主體（1）上的觀察孔（4）設在兩個工藝孔（3）中間的位置。

上述對中塊主體上的觀察孔的位置是經過精心設計的，當對中塊主體的三個擋邊與真空機械手手指對齊時，觀察孔的圓心也就是手指上放晶圓時的圓心。在定位時，使對中塊的觀察孔分別與EFEM手指上的圓環，加熱盤定位工裝上的圓孔同心，則定位完成。

本實用新型的有益效果是：1、不需要準備晶圓來輔助定位。2、效率提高，只需要觀察一個位置。3、由于對中塊觀察孔小，便于觀察，精度提高。

附圖說明

圖1是本實用新型的結構示意圖。

圖2是圖1的后視圖。

圖3是EFEM機械手的手指結構示意圖。

圖4是真空機械手手指與EFEM手指定位示意圖。

圖5是真空機械手手指與EFEM手指定位俯視圖

圖6是真空機械手手指與加熱盤定位示意圖。

圖7是真空機械手手指與加熱盤定位俯視圖

具體實施方式

實施例：

由圖1、圖2可見，機械手定位裝置，該裝置包括對中塊主體1，對中塊主體1的四個邊中有三條邊制有擋邊，上述對中塊主體1上制有工藝孔3，在工藝孔3間制有觀察孔4。

上述工藝孔3為長方形；上述觀察孔4為圓形。

上述對中塊主體1的四個邊中的擋邊，其相對的兩個短邊上制有長擋邊2，在另外的一條長邊上制有短擋邊11。

上述對中塊主體1上的觀察孔4設在兩個工藝孔3中間的位置。

所述長擋邊2和短擋邊11的作用是和真空機械手手指7對齊；工藝孔3的作用減輕結構重量，減少真空機械手手指7的變形；觀察孔4的作用是觀察、定位。

由圖3、圖4可見，真空機械手與EFEM手指定位時，將對中塊主體1放在真空機械手手指7上并對齊。EFEM手指5從對中塊的下方伸入。

由圖5可見，對中塊主體1上的觀察孔4與下方EFEM手指5的圓環6同心時，定位完成。

由圖6可見，真空機械手與加熱盤定位時，將加熱盤定位工裝8放在加熱盤10上并對齊。對中塊主體1放在真空機械手手指7上并對齊。真空機械手手指7伸入加熱盤定位工裝8和加熱盤10之間的空隙。

由圖7可見，加熱盤定位工裝8的圓孔9與下方對中塊主體1的觀察孔4同心時，定位完成。