[實用新型]一種曝光機

有效

• 申請號: 201320114290.3
• 申請日: 2013-03-13
• 公開（公告）號: CN203101813U
• 公開（公告）日: 2013-07-31
• 發明（設計）人: 黎敏;吳洪江;張繼凱;姜晶晶
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;北京京東方顯示技術有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F9/00;G03F1/44
• 代理公司: 北京路浩知識產權代理有限公司 11002
• 代理人: 韓國勝

本實用新型涉及一種顯示領域中應用的曝光設備，具體涉及一種具有掩膜板檢測功能的曝光機。

曝光機是指通過開啟燈光發出一定波長的光，將膠片或其他透明體上的圖像信息轉移到涂有感光物質的表面上的設備，廣泛應用于半導體、微電子、生物器件和納米科技領域。

在TFT?LCD（薄膜晶體管液晶顯示器）等微加工制造行業的曝光工藝中，掩膜板與被曝光基板的間距一般在一百微米至數百微米以內，可以將掩膜板上的圖形直接映射到被曝光基板上。因為掩膜板與被曝光基板的間距很小，基板上的光刻膠升華物及其他異物很容易吸附在掩膜板上造成污染；此外，被曝光基板上的硬質異物等也很容易對掩膜板造成損傷。當掩膜板被污染或出現損傷時，將直接使通過該曝光機進行曝光的每一片基板均發生不良，即共通性不良。

當共通性不良發生時，需要將掩膜板從曝光機取出后進行檢查確認，耗時費力(特別是高世代線的掩膜板，尺寸很大)，且可能在操作中導致掩膜板損傷，帶來巨大損失。

在實際生產中，升華物及其他異物對掩膜板的污染需要積累到一定量后才會導致曝光基板不良發生，如果能對掩膜板實時監測并進行趨勢管理，可有效避免此類不良的發生。

（一）要解決的技術問題

本實用新型的目的是提供一種曝光機，安裝有對掩膜板進行檢測的檢測機構，該曝光機通過掩膜板檢測機構能夠在生產中實時對掩膜板進行檢查和監測，從而有效減少產品不良的產生。

（二）技術方案

本實用新型是通過以下技術方案實現的：

一種曝光機，包括承載臺、檢測機構和移動導軌；

所述移動導軌設置在所述承載臺上；

所述移動導軌設置在所述承載臺上；

所述檢測機構位于所述承載臺上方，所述檢測機構包括顯微檢測儀和搭載軸，所述顯微檢測儀設置在所述搭載軸上，所述搭載軸位于所述移動導軌上方。

進一步的，

所述移動導軌為平行的兩條移動導軌，設置在所述承載臺對向的兩個側邊邊緣處的位置；

所述顯微檢測儀滑動連接在所述搭載軸上，所述搭載軸與所述承載臺平行，所述搭載軸與所述移動導軌垂直。

進一步的，

所述承載臺用于支撐基板，所述基板通過位于基板上方的掩膜板進行曝光；

所述曝光機還包括對位系統，所述對位系統對應設置在所述掩膜板邊緣的位置，用于所述掩膜板和所述基板對位；

所述檢測機構用于對所述掩膜板的異常進行檢測；

所述移動導軌位于所述對位系統的外側，所述兩條移動導軌等長且其對應端的連線與所述移動導軌垂直，每條所述移動導軌的兩端延伸長度均超出所述掩膜板的靠近所述移動導軌的邊的兩端。

進一步的，所述檢測機構還包括支撐架，所述搭載軸通過所述支撐架設置在所述移動導軌上，且所述支撐架設有升降結構。

進一步的，所述檢測機構還包括支撐底座，所述支撐底座設置在所述支撐架的底部，所述支撐架通過所述支撐底座與所述移動導軌滑動連接，且所述支撐底座內設有驅動馬達，用于驅動所述搭載軸在所述移動導軌上滑動。

進一步的，所述檢測機構還包括支撐底座，所述支撐底座設置在所述支撐架的底部，所述支撐架通過所述支撐底座與所述移動導軌滑動連接，且所述支撐底座內設有驅動馬達，用于驅動所述搭載軸在所述移動導軌上滑動。

進一步的，所述檢測機構還包括位移測量裝置，所述位移測量裝置用于測量所述顯微檢測儀在所述搭載軸上滑動的距離以及所述搭載軸在所述移動導軌上滑動的距離。

進一步的，所述位移測量裝置為激光干涉測量儀或光柵尺。

進一步的，所述檢測機構還包括搭載軸伸縮軌道，所述搭載軸伸縮軌道設置在所述承載臺上與所述兩條移動導軌所處的兩個側邊相鄰的側邊邊緣處，且所述搭載軸伸縮軌道與所述兩條移動導軌垂直并相連通；

所述搭載軸上設有搭載軸伸縮結構，所述搭載軸伸縮結構為折疊結構或套管結構，所述搭載軸伸縮結構用于所述搭載軸在所述搭載軸伸縮軌道上伸縮。

進一步的，所述顯微檢測儀為CCD圖像傳感器。

進一步的，所述檢測機構還包括檢測儀升降機構，所述檢測儀升降機構設置在所述搭載軸上，所述CCD圖像傳感器設置在所述檢測儀升降機構上，所述檢測儀升降機構用于所述CCD圖像傳感器對焦。

（三）有益效果

與現有技術相比，本實用新型有如下優點：