[實用新型]觸控彩膜基板、顯示面板和顯示裝置

有效

• 申請號: 201320109761.1
• 申請日: 2013-03-11
• 公開（公告）號: CN203217206U
• 公開（公告）日: 2013-09-25
• 發明（設計）人: 劉英明;王海生;楊盛際;劉紅娟
• 申請（專利權）人: 北京京東方光電科技有限公司
• 主分類號: G02F1/1335
• 分類號: G02F1/1335;G02F1/1333;G06F3/041
• 代理公司: 北京派特恩知識產權代理事務所(普通合伙) 11270
• 代理人: 蔣雅潔;程立民

技術領域

本實用新型涉及液晶顯示技術領域，尤其涉及一種觸控彩膜基板、顯示面板和顯示裝置。

背景技術

液晶顯示器為目前主流的平板顯示器。液晶面板的觸摸功能實現通常包括In-Cell和On-Cell這兩種方法，In-Cell是指將觸摸面板功能嵌入到液晶像素中的方法，On-Cell是指將觸摸面板功能嵌入到彩膜基板和偏振片之間的方法。

現有技術中，針對薄膜晶體管液晶顯示器(TFT-LCD)的常規On-Cell表面電容式結構如圖1所示，101表示偏振片，103表示基板(即用于制作的彩膜基板的基板，可以是玻璃基板或塑料基板)，在上玻璃基板103上形成有黑矩陣104、彩膜層105、公共電極層106、取向層107，并且在偏振片101和基板103之間有一層導電層102，導電層102作為彩膜基板的電容傳感器(Capacitive?sensor)；當用戶手指放在偏振片101上時，由于人體電場，用戶手指與工作面之間形成一個耦合電容C_f；另外，109表示陣列(array)基板，陣列基板109外側也有偏振片101；在陣列基板109和彩膜基板之間填充有液晶108。導電層102的材料通常為氧化銦錫(ITO，Indium?Tin?Oxide)。

現有的常規On-Cell表面電容式結構，是在彩膜基板的表面制作一整面導電層102，整面的導電層102會影響LCD的透過率；而且由于導電層102制作在彩膜基板的外表面，與彩膜基板的制作工序不在同一側，因此需要用到基板翻轉工藝，這增加了工藝復雜性。

實用新型內容

有鑒于此，本實用新型的主要目的在于提供一種觸控彩膜基板、顯示面板和顯示裝置，以提高LCD的透過率，降低制作LCD的工藝復雜性。

為達到上述目的，本實用新型的技術方案是這樣實現的：

一種觸控彩膜基板，在基板上形成有第一導電層，所述第一導電層的圖案與所述基板上的黑矩陣BM的圖案相同；在形成有第一導電層的所述基板上形成有第一絕緣層，所述第一絕緣層的顯示區域圖案與所述第一導電層的顯示區域圖案相同。

在形成有所述第一絕緣層的所述基板上形成有所述BM，且所述BM和所述第一導電層、所述第一絕緣層位于所述基板的同側。

在形成有所述第一絕緣層的所述基板上形成有第二導電層，所述第二導電層接公共地；且在形成有所述第二導電層的所述基板上形成有第二絕緣層；且所述第二導電層的顯示區域圖案與所述第一導電層的顯示區域圖案相同；所述第二絕緣層的顯示區域圖案與所述第一導電層的顯示區域圖案相同。

在形成有所述第二絕緣層的所述基板上形成有所述BM，且所述BM和所述第一導電層、所述第一絕緣層、所述第二導電層、所述第二絕緣層位于所述基板的同側。

一種顯示面板，包括本實用新型所述的觸控彩膜基板。

一種顯示裝置，包括本實用新型所述的顯示面板。

本實用新型所提供的一種觸控彩膜基板、顯示面板和顯示裝置，制作與BM圖案相同的第一導電層，且第一導電層制作在彩膜基板的內側，這樣既不會影響LCD的顯示效果，也省去了翻轉工藝，從而能夠降低制作LCD的工藝復雜性；另外，不再整面制作導電層，也能夠提高LCD的透過率；再有，制作形成的第二導電層還能夠有效屏蔽LCD對表面電容所帶來的信號干擾。

附圖說明

圖1為現有技術中TFT-LCD的常規On-Cell表面電容式結構示意圖；

圖2為本實用新型實施例的一種彩膜基板的電容式制作方法的流程圖；

圖3為本實用新型實施例的另一種彩膜基板的電容式制作方法的流程圖；

圖4為本實用新型實施例的一種彩膜基板的結構示意圖。

附圖標記說明：

101偏振片；102導電層；103上基板；104黑矩陣；105彩膜層；106公共電極層；107取向層；108液晶；109陣列基板；1021第一導電層；1022第二導電層；1101第一絕緣層；1102第二絕緣層。

具體實施方式

下面結合附圖和具體實施例對本實用新型的技術方案進一步詳細闡述。

本實用新型實施例提供一種觸控彩膜基板的制作方法，如圖2所示，該方法主要包括：

步驟201，采用與制作黑矩陣(BM)相同的掩膜板，在基板上制作形成第一導電層。