[實用新型]一種黑陶燒制窯有效
| 申請號： | 201320106693.3 | 申請日： | 2013-03-08 |
| 公開（公告）號： | CN203163494U | 公開（公告）日： | 2013-08-28 |
| 發明（設計）人： | 張學軍 | 申請（專利權）人： | 天津眾樂雕塑文化創意有限公司 |
| 主分類號： | F27B17/00 | 分類號： | F27B17/00 |
| 代理公司： | 天津市三利專利商標代理有限公司 12107 | 代理人： | 李世萱 |
| 地址： | 3019*** | 國省代碼： | 天津;12 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 黑陶 燒制 | ||
【權利要求書】：
1.一種黑陶燒制窯，其特征在于，包括馬蹄形的窯體，所述窯體從外向內依次設置有保溫層以及三層結構的氧化層；所述保溫層內壁與所述氧化層的外壁之間間隔7～8公分。
2.根據權利要求1所述黑陶燒制窯，其特征在于，所述氧化層包括自外內向依次間隔設置的硅酸鹽層、高溫鹽層以及二氧化硅土層。
3.根據權利要求2所述黑陶燒制窯，其特征在于，所述硅酸鹽層、高溫鹽層以及二氧化硅土層之間的間隔距離為7～8公分。
4.根據權利要求3所述黑陶燒制窯，其特征在于，所述硅酸鹽層的厚度為10～12公分，所述高溫鹽層的厚度為3～5公分，所述二氧化硅土層的厚度為7～8公分。
5.根據權利要求1或4所述黑陶燒制窯，其特征在于，所述保溫層的厚度為10～12公分。
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