[實用新型]一種直列多靶磁控濺射鍍膜裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201320097577.X
• 申請日: 2013-03-04
• 公開（公告）號: CN203065570U
• 公開（公告）日: 2013-07-17
• 發(fā)明（設計）人: 杜曉松;林慶浩;邱棟;蔣亞東
• 申請（專利權）人: 電子科技大學
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 成都宏順專利代理事務所(普通合伙) 51227
• 代理人: 李順德;王睿

1.一種直列多靶磁控濺射鍍膜裝置，包括1個真空室，真空室內設置有n個矩形濺射靶（3）、1個基片架、1個基片加熱器、1個直線運動機構，真空室外具有1個步進電機；其特征在于，所述真空室為箱式真空室，n個矩形濺射靶相互平行并共軸排成一列，靶間距小于矩形靶寬度的2倍，所有矩形濺射靶的寬度方向都平行于真空室的長邊；矩形濺射靶上方設置有一個直線運動結構，基片架和基片加熱器固定于直線運動機構之上，并在步進電機的驅動下能夠沿真空室的長邊作直線往復運動，直線往復運動的起始點、終止點和運動速度由一個控制器進行編程設置，其最大行程覆蓋了所有矩形濺射靶。?

2.根據權利要求1所述的一種直列多靶磁控濺射鍍膜裝置，其特征在于，所述矩形濺射靶的個數n≥3。?

3.根據權利要求1所述的一種直列多靶磁控濺射鍍膜裝置，其特征在于，所述矩形靶的長度大于等于矩形靶的寬度的3倍。?

4.根據權利要求1所述的一種直列多靶磁控濺射鍍膜裝置，其特征在于，所述n個矩形濺射靶的磁控濺射電源為直流電源、射頻電源、中頻電源或脈沖電源，或是以上幾種電源的任意組合。?

5.根據權利要求1所述的一種直列多靶磁控濺射鍍膜裝置，其特征在于，所述直線運動機構為絲杠式、皮帶式或鏈條式。?