[實用新型]一種石墨部件凈化裝置有效
| 申請號: | 201320097248.5 | 申請日: | 2013-03-04 |
| 公開(公告)號: | CN203128205U | 公開(公告)日: | 2013-08-14 |
| 發明(設計)人: | 劉柏年;劉剛;李文強;劉康斐;陳英;李春松;秦榕 | 申請(專利權)人: | 青海黃河上游水電開發有限責任公司新能源分公司 |
| 主分類號: | C01B31/04 | 分類號: | C01B31/04 |
| 代理公司: | 蘭州中科華西專利代理有限公司 62002 | 代理人: | 李艷華 |
| 地址: | 810006 青海省*** | 國省代碼: | 青海;63 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 石墨 部件 凈化 裝置 | ||
技術領域
本實用新型涉及一種凈化裝置,尤其涉及一種石墨部件凈化裝置。?
背景技術
多晶硅電極使用的石墨部件均為高純石墨,但石墨部件在加工制作的過程中會被污染,石墨部件表面以及內部會污染進金屬雜質、硼、磷、砷、油脂等,污染物含有的金屬元素、硼、磷、砷等,在多晶硅生產過程中,石墨部件是和多晶硅產品直接接觸的,石墨部件內的雜質會進入到多晶硅產品內,影響到多晶硅產品純度。?
目前,石墨部件的凈化技術主要由以下兩種:?
一種是使用強酸(濃硝酸)進行浸泡,然后再使用純水進行清洗、干燥。該方法利用強酸的氧化性將有機物和金屬氧化分解并溶于強酸,通過浸泡達到將石墨部件氧化的目的,但強酸浸泡的缺點是在浸泡的過程中容易將其它物質帶進石墨部件中,而且強酸操作起來帶有一定的危險性,同時會帶來大量的廢酸和廢水,增加了廢水排放量。
還有一種為高溫煅燒,將內部的有機物高溫分解。該方法操作時存在一定的操作危險性,而且高溫煅燒后冷卻需要一定時間,周期較長。?
實用新型內容
本實用新型所要解決的技術問題是提供一種可保證多晶硅純度的石墨部件凈化裝置。?
為解決上述問題,本實用新型所述的一種石墨部件凈化裝置,其特征在于:該裝置包括設有底座且呈圓筒狀的外殼、置于所述外殼一側的密封門、置于所述外殼內的空腔和置于所述空腔內的放置石墨部件的支架;所述外殼上均布有與電源相連的三個帶有冷卻水夾套的電極,其上部設有尾氣管口,其底部設有進氣管口;所述外殼與所述空腔相接處設有隔熱石墨網;所述空腔與所述支架之間設有三個石墨電極,該三個石墨電極與所述三個帶有冷卻水夾套的電極一一對應相接;所述尾氣管口與真空泵相連;所述進氣管口與氯氣罐相連。?
所述三個帶有冷卻水夾套的電極中的每一個上均設有冷卻水出水接口、冷卻水進水接口。?
所述尾氣管口的中心線與所述進氣管口的中心線相錯。?
所述三個帶有冷卻水夾套的電極的材質均為紫銅。?
所述尾氣管口處設有傳感器,該傳感器連有氯氣檢測儀。?
所述空腔內設有溫度傳感器,該溫度傳感器的一端與溫控儀相連,其另一端分別與所述三個石墨電極相連。?
本實用新型與現有技術相比具有以下優點:?
1、本實用新型中通過帶有冷卻水夾套的電極對空腔內加熱,使空腔內的溫度達到600℃,此時石墨部件內的P、B和金屬雜質在600℃的高溫下,形成氯化物,隨著氯氣的充入、排放帶出本實用新型,從而達到凈化石墨部件的目的。
2、由于本實用新型對石墨部件凈化除雜是在一個密閉的空腔內進行,因此,可以有效地將石墨部件內的雜質除掉,從而保證多晶硅的純度。?
附圖說明
下面結合附圖對本實用新型的具體實施方式作進一步詳細的說明。?
圖1為本實用新型的側視圖。?
圖2為本實用新型的主視圖。?
圖中:1—帶有冷卻水夾套的電極???2—冷卻水出水接口???3—冷卻水進水接口??4—外殼??5—隔熱石墨網??6—支架??7—石墨部件???8—石墨電極???9—尾氣管口??10—進氣管口11—密封門。?
具體實施方式
如圖1、圖2所示,一種石墨部件凈化裝置,該裝置包括設有底座且呈圓筒狀的外殼4、置于外殼4一側的密封門11、置于外殼4內的空腔和置于空腔內的放置石墨部件7的支架6。外殼4上均布有與電源相連的三個帶有冷卻水夾套的電極1,其上部設有尾氣管口9,其底部設有進氣管口10;外殼4與空腔相接處設有隔熱石墨網5;空腔與支架6之間設有三個石墨電極8,該三個石墨電極8與三個帶有冷卻水夾套的電極1一一對應相接;尾氣管口9與真空泵相連;進氣管口10與氯氣罐相連。?
其中:三個帶有冷卻水夾套的電極1中的每一個上均設有冷卻水出水接口2、冷卻水進水接口3。?
尾氣管口9的中心線與進氣管口10的中心線相錯。?
三個帶有冷卻水夾套的電極1的材質均為紫銅。?
尾氣管口9處設有傳感器,該傳感器連有氯氣檢測儀。?
空腔內設有溫度傳感器,該溫度傳感器的一端與溫控儀相連,其另一端分別與三個石墨電極8相連。?
使用時,將需要凈化的石墨部件7擺放在支架6上,關閉密封門11,從尾氣管口9將空腔內的抽真空至-0.01MPa,將爐內的濕氣、顆粒等雜質去除,然后充氮氣(99.95%)至0.01MPa,然后再抽真空充氮氣。?
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