[實用新型]防止脫扣和過敏的腰帶有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201320095305.6 | 申請日: | 2013-02-25 |
| 公開(公告)號: | CN203219972U | 公開(公告)日: | 2013-10-02 |
| 發(fā)明(設計)人: | 于青龍 | 申請(專利權)人: | 于青龍 |
| 主分類號: | A41F9/00 | 分類號: | A41F9/00 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 459011*** | 國省代碼: | 河南;41 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 防止 過敏 腰帶 | ||
技術領域
本發(fā)明涉及服飾用品技術領域,尤其是涉及一種防止脫扣和過敏的腰帶。
背景技術
本申請人的中國實用新型專利:全木質(zhì)保健腰帶扣(授權公告號:CN2840715Y)針對市場上常見的金屬腰帶扣進行改進,通過在腰帶扣的后帶扣的底部設置向前伸出的后帶扣舌,該后帶扣舌前端上邊緣固定有能夠和皮帶上的倒角溝槽配合的鎖扣的方式,較好的解決了常見的金屬腰帶扣結構復雜、容易損壞的問題。同時,通過采用木質(zhì)材料制備該腰帶扣,解決了原有金屬腰帶扣容易引起使用者皮膚過敏的問題。但是,在實際使用中發(fā)現(xiàn),使用了該腰帶扣的皮帶仍偶有脫扣(即束緊狀態(tài)的腰帶自行脫開)現(xiàn)象發(fā)生。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種防止脫扣和過敏的腰帶,它具有脫扣幾率極大降低的特點。進一步,它具有能夠避免使用者皮膚過敏的特點。
本發(fā)明所采用的技術方案是:防止脫扣和過敏的腰帶,包括帶扣和皮帶,其中,該帶扣包括位于左側(cè)的前扣和位于右側(cè)的后扣,該前、后扣通過鉸軸鉸連在一起,且該后扣上部設有用于皮帶穿過的方圈,該前扣上設有用于皮帶穿過的方套,所述后扣上部位于該鉸軸的左方設有圓柱形凸扣,且該皮帶上設有和該凸扣相配的扣眼。
所述凸扣的上端面為球冠形。
所述帶扣為木質(zhì)材料制備。
所述前扣的上表面上嵌有裝飾板。
本發(fā)明和現(xiàn)有技術相比所具有的優(yōu)點是:1、脫扣幾率極大降低。本發(fā)明的防止脫扣和過敏的腰帶針對原有技術的鎖扣和皮帶配合的方式進行改進。即,在束緊腰帶時,該圓柱形凸扣插入該皮帶的扣眼內(nèi),在不經(jīng)外力彎折前扣和后扣的情況下,該凸扣不會從該扣眼內(nèi)脫出,從而極大降低了腰帶脫扣的幾率。2、避免使用者皮膚過敏。本發(fā)明的防止脫扣和過敏的腰帶上經(jīng)常和人體皮膚接觸的帶扣采用木質(zhì)材料制備,從而不會引起皮膚過敏。3、花型多樣。帶扣上通過嵌接的方式設置裝飾板。這樣,該裝飾板替換方便,且易于進行機械化生產(chǎn),從而使該腰帶具有多種花型,能夠滿足不同人群的喜好。
附圖說明
下面結合附圖和實施例對本發(fā)明進一步說明:
圖1是本發(fā)明的實施例的分解狀態(tài)的主視剖視圖;
圖2是圖1的俯視半剖視圖;
圖3是本發(fā)明的前扣的左視圖;
圖4是本發(fā)明的后扣的左視圖。
圖中:10、帶扣,11、前扣,111、方套,12、后扣,121、方圈,122、凸扣,13、鉸軸;20、皮帶,21、扣眼;30、裝飾板。
具體實施方式
實施例,見圖1至圖4所示:防止脫扣和過敏的腰帶,包括帶扣10和皮帶20。其中,該帶扣10包括位于左側(cè)的前扣11和位于右側(cè)的后扣12,該前扣11和后扣12通過鉸軸13鉸連在一起,且該后扣12上部設有用于皮帶20穿過的方圈121,該前扣11上設有用于皮帶20穿過的方套111。當然,此時的皮帶20的一端連接在該后扣12的右部。更具體地說,該后扣12上部位于該鉸軸13的左方設有圓柱形凸扣122,且該皮帶20上設有若干個和該凸扣122相配的扣眼21。這樣,當需要束緊腰帶時,將該皮帶20的前端依次穿過該方套111和該方圈121,當長度合適后,該前扣11和后扣12之間的夾角在人體腰部弧線的作用下趨于180°,從而該后扣12位于鉸軸13左端的部分向上抬起,使該凸扣122插入某個扣眼21內(nèi)。此時,該凸扣122不易從該扣眼21內(nèi)自行脫出,從而降低了該腰帶脫扣的幾率。當然,該凸扣122的上端面可以制備為球冠形。這樣,便于該凸扣122順暢的進入該扣眼21內(nèi)。
優(yōu)化的,該帶扣10為木質(zhì)材料制備。這樣,避免了金屬材料制備的帶扣10引起人體皮膚過敏。
進一步,該前扣11的上表面上嵌有裝飾板30。該裝飾板30上可以根據(jù)需要雕刻上不同的文字和花紋,從而滿足不同人群的需求。
以上所述僅為本發(fā)明的優(yōu)選實施例,并非因此限制本發(fā)明的專利范圍,凡是利用本發(fā)明說明書及附圖內(nèi)容所作的等效結構或等效流程變換,或直接或間接運用在其他相關的技術領域,均同理包括在本發(fā)明的專利保護范圍內(nèi)。
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