[實用新型]一種掩模框架及其對應的掩模組件

有效

• 申請號: 201320094364.1
• 申請日: 2013-03-01
• 公開（公告）號: CN203159697U
• 公開（公告）日: 2013-08-28
• 發明（設計）人: 魏志凌;高小平;潘世珎;張煒平
• 申請（專利權）人: 昆山允升吉光電科技有限公司
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;C23C16/04;H01L51/56
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種掩模框架，包括邊框、連接機構、強化槽，其特征在于，所述邊框為兩組對邊構成的中空框架結構，所述強化槽為平行于所述對邊長度方向的長條通孔且設置在所述對邊上，所述對邊上有穿過所述長條通孔的孔，所述孔被所述長條通孔截斷形成內側孔和外側孔，所述外側孔為通孔，所述連接機構是一端具有直徑大于所述外側孔直徑的端部及具有外螺紋的桿部，所述內側孔有螺紋且與所述桿部連接。

2.根據權利要求1所述的掩模框架，其特征在于，所述邊框是一體成型結構或由所述對邊連接形成的結構。

3.根據權利要求1所述的掩模框架，其特征在于，所述強化槽是與所述對邊一體成型形成的結構或是由所述對邊的內外側部件連接形成的結構。

4.根據權利要求1所述的掩模框架，其特征在于，所述強化槽是至少有一組形成在所述對邊上。

5.根據權利要求1所述的掩模框架，其特征在于，所述孔是貫穿通孔或所述內側孔是盲孔。

6.根據權利要求1所述的掩模框架，其特征在于，所述孔在所述對邊上規律排布。

7.根據權利要求6所述的掩模框架，其特征在于，所述孔是中間密集兩端稀疏排布或均勻排布或中間稀疏兩端密集。

8.根據權利要求1所述的掩模框架，其特征在于，所述掩模框架包括支撐桿，所述支撐桿與所述對邊的內側連接。

9.一種掩模組件，其特征在于，所述掩模組件包括權利要求1-7提及的所述掩模框架和掩模部件，所述掩模部件與所述掩模框架有固定聯接部位，所述固定聯接部位固定聯接在構成所述掩模框架的所述對邊的上表面且在所述強化槽的內側，所述掩模部件包括掩模圖案區域，所述掩模部件是整體一塊或多個單元拼接而成的結構。

10.根據權利要求9所述的掩模組件，其特征在于，所述固定聯接部位為膠聯接結構或焊接結構。