[實用新型]一種具有輔助開口的掩模板有效

申請號：	201320094230.X	申請日：	2013-03-01
公開（公告）號：	CN203159696U	公開（公告）日：	2013-08-28
發明（設計）人：	魏志凌;高小平;潘世珎;劉學明	申請（專利權）人：	昆山允升吉光電科技有限公司
主分類號：	C23C14/04	分類號：	C23C14/04;C23C14/24
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地址：	215300 江蘇省***	國省代碼：	江蘇;32
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摘要：
搜索關鍵詞：	一種具有輔助開口模板
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【說明書】：

技術領域

本實用新型涉及一種掩模板，具體涉及一種具有輔助開口的掩模板及其制作方法，屬于OLED掩模板制造領域。

背景技術

OLED相對其它顯示屏具有可視范圍寬、響應快、功耗小等突出優點，因此OLED顯示技術日益受到人們的關注。蒸鍍工序是OLED顯示技術的一個重要環節，蒸鍍中需要用到蒸鍍用的掩模板，有機蒸鍍材料通過掩模板的開口蒸鍍淀積到ITO玻璃面，其中掩模板的開口精度會直接影響到蒸鍍質量。目前常用的一種掩模用具，如圖1所示是一種具有掩模開口的掩模板，圖1中，11為掩模板主體，12為外框，13為掩模區域，14為焊點，掩模板制作好后，需要將其繃網使板面及掩模區域均受到一定的拉力，其目的是使板面平整且使掩模區域開口間的狹長金屬絲繃緊（保證開口精度，防止下垂），繃網的具體操作通常是：將掩模板通過固定孔固定到繃網機構上→繃拉（使板面平整且使金屬絲繃緊）→激光焊接（將掩模板主體11固定到外框12上，焊點為14）→沿半刻線將半刻線（圖中未示出半刻線）以外的區域撕下，即已經固定好掩模板。但固定后掩模區域13的中間部分受力均勻，兩邊鄰近掩模板金屬部分受力較小，開口間的狹長金屬絲會下垂，致使兩邊的開口精度不高，從而影響蒸鍍質量，為此有必要提出一種掩模板結構解決此問題。

實用新型內容

有鑒于此，需要克服現有技術中的上述缺陷中的至少一個。本實用新型提供了一種具有輔助開口的掩模板及其制作方法。一種具有輔助開口的掩模板，包括掩模板主體，所述掩模板主體上有掩模圖案，所述掩模圖案由掩模開口組成；輔助開口圖案，所述輔助開口圖案由輔助開口構成，所述輔助開口位于所述掩模板主體上，并分布在所述掩模圖案兩側，所述輔助開口長度方向與所說掩模開口長度方向平行。

根據本專利背景技術中對現有技術所述，如圖1所示，將掩模板通過固定孔固定到繃網機構上繃拉，使板面平整且使金屬絲繃緊后進行激光焊接（將掩模板主體11固定到外框12上，焊點為14）并沿半刻線將半刻線以外的區域撕下，即已經固定好掩模板。但固定后掩模區域13的中間部分受力均勻，兩邊鄰近掩模板金屬部分受力較小，開口間的狹長金屬絲會下垂，致使兩邊的開口精度不高，從而影響蒸鍍質量，本實用新型提供的具有輔助開口的掩模板則加入一個輔助結構，使受力較小的區域外移至輔助開口上，從而保證了掩模圖案區域中間和兩側達到預期的開口精度，保證蒸鍍質量。

另外，根據本實用新型公開的掩模板的還具有如下附加技術特征：

進一步地，所述掩模圖案的數量大于等于1，所述輔助開口圖案與所述掩模圖案數量比為2：1。

可選地，當兩個所述掩模圖案排成一列時，在所述掩模圖案之間有一組輔助開口，即兩個掩模圖案共用一組輔助開口。

當兩個所述掩模圖案排成一列時，基于掩模板及掩模圖案整體設計的考慮，可以將兩個所述掩模圖案之間兩組輔助開口圖案合并為一組輔助開口圖案，同時使輔助開口避開掩模淀積區域。

優選地，所述掩模開口和所述輔助開口的開口結構相同且為通孔。

如此，可以使掩模開口和輔助開口受力狀況一致，保證之后的蒸鍍質量。

可選地，所述輔助開口和所述掩模開口的開口形狀相同但為封閉孔。

輔助開口部分只在掩模板的一面蝕刻掉一定的厚度，另一面不進行蝕刻，蒸鍍時有機材料不會通過輔助開口而淀積到襯底上，因此設置輔助開口到掩模開口的距離時不必考慮避開掩模區域，根據實際需要使其起到提高掩模區域邊緣的開口精度。

進一步地，所述輔助開口間距和所述掩模開口間距是所述輔助開口寬度和所述掩模開口寬度的2倍。

進一步地，所述輔助開口圖案與所述掩模圖案臨近的一側與所述掩模圖案的距離是所述掩模開口之間距離的1倍以上（包含1倍），一定的距離能夠使輔助開口能夠形成更好的受力分布，使蒸鍍的效果更好，同時避開掩模區域。

所述輔助開口圖案與所述掩模圖案臨近的一側與所述掩模圖案的距離要使輔助開口能夠完全避開蒸鍍掩模區域，同時也要起到輔助作用。

進一步地，所述輔助開口間距和所述掩模開口間距相同，保證兩者間距的一致也會使得受力分布更加均衡，保證好的蒸鍍效果。