[實(shí)用新型]一種用于離子鍍槍裝置的弧源頭

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201320090856.3
• 申請日: 2013-02-28
• 公開（公告）號: CN203065562U
• 公開（公告）日: 2013-07-17
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 郎文昌
• 申請（專利權(quán)）人: 溫州職業(yè)技術(shù)學(xué)院
• 主分類號: C23C14/32
• 分類號: C23C14/32
• 代理公司: 沈陽優(yōu)普達(dá)知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 21234
• 代理人: 張志偉

1.一種用于離子鍍槍裝置的弧源頭，其特征在于，包括靶材、靶材底座，靶材底部設(shè)有外螺紋，靶材通過底部外螺紋安裝在靶材底座的靶材安裝柱環(huán)套上，靶材底部與靶材底座冷卻銅板緊密接觸；靶材底座中設(shè)置有靶材底座冷卻通道隔板，靶材底座冷卻通道隔板將靶材底座中的空腔分成靶材底座冷卻水上通道和靶材底座冷卻水下通道，靶材底座冷卻通道隔板中間的圓孔通過靶材底座冷卻水進(jìn)水管與冷卻水進(jìn)水管道連通。

2.按照權(quán)利要求1所述的用于離子鍍槍裝置的弧源頭，其特征在于，靶材形狀為圓盤形、圓柱形、圓錐形或圓臺形。

3.按照權(quán)利要求1所述的用于離子鍍槍裝置的弧源頭，其特征在于，靶材的外側(cè)設(shè)置靶材屏蔽罩。

4.按照權(quán)利要求1所述的用于離子鍍槍裝置的弧源頭，其特征在于，靶材底座設(shè)有靶材底座盤、靶材底柱連接管、靶材底座冷卻銅板、靶材底座冷卻水下通道、靶材安裝柱環(huán)套、靶材底座冷卻通道隔板、靶材底座冷卻水進(jìn)水管，具體結(jié)構(gòu)如下：

靶材底座盤、靶材底柱連接管、靶材底座冷卻銅板、靶材安裝柱環(huán)套、靶材底座冷卻通道隔板、靶材底座冷卻水進(jìn)水管同軸安裝；靶材底座冷卻銅板焊接在靶材安裝柱環(huán)套上，與靶材安裝柱環(huán)套上端面留有一段距離，靶材安裝柱環(huán)套上端面與靶材底座冷卻銅板之間的環(huán)套內(nèi)壁設(shè)有螺紋，靶材通過該螺紋安裝在靶材底座上，靶材與靶材底座冷卻銅板緊密接觸；靶材底座冷卻通道隔板為中間有圓孔、邊緣有間隔縫隙的圓板，間隔縫隙作為冷卻水出水通道口。

5.按照權(quán)利要求1或4所述的用于離子鍍槍裝置的弧源頭，其特征在于，靶材底座通過靶材底座盤上的靶材底柱連接管安裝在靶材底柱上。

6.按照權(quán)利要求4所述的用于離子鍍槍裝置的弧源頭，其特征在于，靶材底座冷卻通道隔板同軸焊接在靶材安裝柱環(huán)套上，與靶材底座冷卻銅板有一段間隔，形成靶材底座冷卻水上通道；靶材底座冷卻通道隔板與靶材底座盤有一段間隔，形成靶材底座冷卻水下通道。

7.按照權(quán)利要求4所述的用于離子鍍槍裝置的弧源頭，其特征在于，靶材底座冷卻通道隔板中間的圓孔連接在靶材底座冷卻水進(jìn)水管上，靶材底座冷卻水進(jìn)水管外壁有密封槽，冷卻水進(jìn)水管道通過密封槽內(nèi)的密封圈與靶材底座冷卻水進(jìn)水管緊密連接。

8.按照權(quán)利要求4所述的用于離子鍍槍裝置的弧源頭，其特征在于，靶材底座盤為中間有一圓孔的圓盤，該圓孔與靶材底座冷卻水進(jìn)水管形成一段環(huán)形間隔，作為冷卻出水口。