[實(shí)用新型]模擬井下地層電阻率的地面校驗(yàn)裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201320089006.1 | 申請(qǐng)日: | 2013-02-27 |
| 公開(公告)號(hào): | CN203239334U | 公開(公告)日: | 2013-10-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 劉越;伍東;黃濤;劉策;徐凌堂;于洋;吳翔 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國(guó)石油集團(tuán)長(zhǎng)城鉆探工程有限公司 |
| 主分類號(hào): | E21B49/00 | 分類號(hào): | E21B49/00;G01V13/00 |
| 代理公司: | 中國(guó)專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 薛峰;嚴(yán)志軍 |
| 地址: | 100101 *** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 模擬 井下 地層 電阻率 地面 校驗(yàn) 裝置 | ||
1.?一種模擬井下地層電阻率的地面校驗(yàn)裝置,其特征在于包括:
周向封閉的外井筒,所述外井筒沿其軸向方向具有第一端和與所述第一端軸向相對(duì)的第二端,其中至少所述第一端為開口端;以及
設(shè)置在所述外井筒徑向內(nèi)側(cè)的井下地層模擬主體,其包括由一個(gè)或多個(gè)電阻率模擬單元體組成的電阻率模擬區(qū)段,其中,所述電阻率模擬單元體模擬了井下不同目標(biāo)地層的電阻率,以供井下測(cè)量?jī)x器對(duì)其進(jìn)行測(cè)量。
2.?根據(jù)權(quán)利要求1所述的地面校驗(yàn)裝置,其特征在于,
所述井下地層模擬主體進(jìn)一步包括由一個(gè)或多個(gè)井壁成像檢測(cè)單元體組成的井壁成像檢測(cè)區(qū)段,其中,所述井壁成像檢測(cè)單元體模擬了井下不同目標(biāo)地層的電阻率,以供所述井下測(cè)量?jī)x器對(duì)其進(jìn)行測(cè)量,而且在至少一部分或每個(gè)所述井壁成像檢測(cè)單元體的朝向所述外井筒的中央軸線的內(nèi)側(cè)表面上具有至少一個(gè)局部標(biāo)定特征,以用于檢測(cè)所述井下測(cè)量?jī)x器的一種或多種特性指標(biāo)。
3.?根據(jù)權(quán)利要求2所述的地面校驗(yàn)裝置,其特征在于,
所述電阻率模擬區(qū)段被設(shè)置成沿軸向方向鄰近于所述外井筒的第一端,而所述井壁成像檢測(cè)區(qū)段被設(shè)置成沿軸向方向鄰接于所述電阻率模擬區(qū)段;或者
所述井壁成像檢測(cè)區(qū)段被設(shè)置成沿軸向方向鄰近于所述外井筒的第一端,而所述電阻率模擬區(qū)段被設(shè)置成沿軸向方向鄰接于所述井壁成像檢測(cè)區(qū)段。
4.?根據(jù)權(quán)利要求2所述的地面校驗(yàn)裝置,其特征在于,
所述局部標(biāo)定特征包括具有不同幾何尺寸和/或取向的多個(gè)凹槽和/或孔洞。
5.?根據(jù)權(quán)利要求1所述的地面校驗(yàn)裝置,其特征在于,
所述電阻率模擬單元體均由水泥、一種或多種導(dǎo)電物質(zhì)和水制成,以模擬井下不同目標(biāo)地層的電阻率。
6.?根據(jù)權(quán)利要求2所述的地面校驗(yàn)裝置,其特征在于,
所述井壁成像檢測(cè)單元體均由水泥、一種或多種導(dǎo)電物質(zhì)和水制成,以模擬井下不同目標(biāo)地層的電阻率。
7.?根據(jù)權(quán)利要求5或6所述的地面校驗(yàn)裝置,其特征在于,
所述導(dǎo)電物質(zhì)為顆粒和/或粉末形式。
8.?根據(jù)權(quán)利要求5或6所述的地面校驗(yàn)裝置,其特征在于,
所述導(dǎo)電物質(zhì)為石墨粉。
9.?根據(jù)權(quán)利要求8所述的地面校驗(yàn)裝置,其特征在于,
水泥和石墨粉的比例是在60:40至83.5:16.5的范圍內(nèi)根據(jù)待模擬的目標(biāo)地層電阻率的大小選擇的。
10.?根據(jù)權(quán)利要求1所述的地面校驗(yàn)裝置,其特征在于,
所述井下地層模擬主體進(jìn)一步包括由一個(gè)或多個(gè)延伸區(qū)段單元體組成的延伸區(qū)段,其中,所述延伸區(qū)段被設(shè)置成沿軸向方向鄰近于所述外井筒的第二端。
11.?根據(jù)權(quán)利要求10所述的地面校驗(yàn)裝置,其特征在于,
所述電阻率模擬區(qū)段、所述井壁成像檢測(cè)區(qū)段和所述延伸區(qū)段中限定有能夠接收井下測(cè)量?jī)x器的凹槽形空間或中央內(nèi)孔。
12.?根據(jù)權(quán)利要求11所述的地面校驗(yàn)裝置,其特征在于,
所述電阻率模擬區(qū)段、所述井壁成像檢測(cè)區(qū)段和所述延伸區(qū)段的凹槽形空間或中央內(nèi)孔均具有相同的中央軸線,且具有相同形狀的橫截面。
13.?根據(jù)權(quán)利要求1所述的地面校驗(yàn)裝置,其特征在于進(jìn)一步包括:
至少一個(gè)扶正器,所述扶正器設(shè)置在所述外井筒與所述井下地層模擬主體之間,以將所述井下地層模擬主體與所述外井筒固定在一起。
14.?根據(jù)權(quán)利要求1所述的地面校驗(yàn)裝置,其特征在于進(jìn)一步包括:
周向封閉的儲(chǔ)液箱,所述儲(chǔ)液箱沿其軸向方向具有第一端面和與所述第一端面軸向相對(duì)的第二端面,其中所述第一端面具有用于注入液體以及供所述井下測(cè)量?jī)x器進(jìn)出的第一中央開口,所述第二端面具有沿周向密封地固定到所述外井筒的第一端的第二中央開口。
15.?根據(jù)權(quán)利要求1所述的地面校驗(yàn)裝置,其特征在于,
所述外井筒的第二端也是開口端;而且
所述地面校驗(yàn)裝置進(jìn)一步包括具有排液閥門的端接裝置,其固定到所述外井筒的第二端,以封閉所述外井筒的第二端并允許所述外井筒內(nèi)的液體在所述排液閥門的控制下排出。
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