[實用新型]一種分離裝置有效
| 申請號: | 201320077332.0 | 申請日: | 2013-02-19 |
| 公開(公告)號: | CN203085498U | 公開(公告)日: | 2013-07-24 |
| 發明(設計)人: | 馮文宏;趙凱軍 | 申請(專利權)人: | 英利能源(中國)有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/67 | 分類號: | H01L21/67 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產權代理有限公司 11227 | 代理人: | 魏曉波 |
| 地址: | 071051 河*** | 國省代碼: | 河北;13 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 分離 裝置 | ||
1.一種分離裝置,用于硅片和硅塊端部在完成預清洗工藝后進行的分離工序,其特征在于,包括:
用于容納載片籃(1)的箱體(4);
至少兩個用于提升所述載片籃(1)內的固定件(2)的氣缸(6);
用于控制所述活塞桿沿豎直方向運動且控制各個所述活塞桿的運動速度保持相同的控制器(7)。
2.根據權利要求1所述的分離裝置,其特征在于,還包括用于向所述硅片上噴灑清潔水的噴淋水管(3),所述噴淋水管(3)與水泵(5)相連。
3.根據權利要求2所述的分離裝置,其特征在于,所述水泵(5)與所述箱體(4)的外壁固定連接。
4.根據權利要求2所述的分離裝置,其特征在于,還包括用于控制所述水泵(5)啟動和關閉的傳感器。
5.根據權利要求1所述的分離裝置,其特征在于,所述箱體(4)包括第一箱面和第二箱面,所述第一箱面和所述第二箱面之間的距離小于所述固定件(2)的長度,所述第一箱面和所述第二箱面的外壁上分別安裝有所述氣缸(6)。
6.根據權利要求5所述的分離裝置,其特征在于,所述第一箱面上安裝有兩個所述氣缸(6),并且所述第二箱面上安裝有兩個所述氣缸(6)。
7.根據權利要求6所述的分離裝置,其特征在于,所述第一箱面上的兩個所述氣缸(6)之間的距離,以及所述第二箱面上的兩個所述氣缸(6)之間的距離均小于所述固定件(2)的寬度,并且,四個所述氣缸(6)的所在位置呈矩形布置。
8.根據權利要求1所述的分離裝置,其特征在于,所述控制器(7)通過控制與所述氣缸(6)相連的氣路上的電磁閥控制所述氣缸(6)動作。
9.根據權利要求1-8任一項所述的分離裝置,其特征在于,所述控制器(7)安裝在所述箱體(4)的外壁上。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





