[實用新型]金屬納米電鍍設備

有效

• 申請號: 201320070202.4
• 申請日: 2013-02-03
• 公開（公告）號: CN203096211U
• 公開（公告）日: 2013-07-31
• 發明（設計）人: 余勝東;馬金玉
• 申請（專利權）人: 余勝東
• 主分類號: C25D15/00
• 分類號: C25D15/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本實用新型涉及一種表面處理技術，尤其涉及金屬納米復合電鍍工藝。?

我們知道，在電鍍溶液中加入納米粒子，攪拌狀態下使其與基質金屬共沉積可以得到納米復合電鍍層。基于納米粒子的特殊性，制得的復合鍍層會呈現出很多獨特的性能。這些性能包括?：硬度、結合力、耐蝕性、耐磨性、抗高溫氧化性等。目前國內外對納米復合電鍍鎳工藝的研究，主要是在鍍液中添加無機非銀納米粒子，如Si、SiO₂、SiC、Al₂O₃等，從而獲得一些功能性鍍層，如：耐高溫鍍層、耐磨鍍層、耐腐蝕性鍍層等。?

目前的納米復合電鍍存在的不足之處為：納米粒子在鍍液中的分散問題。目前最常用的粉體無機非銀納米粒子易發生團聚，尤其是在較高溫度的水性鍍液中。團聚的納米粒子粒徑變大，使其在鍍液中的分散變得更加困難。?

本實用新型的目的在于提供一種金屬納米電鍍工藝，將銀納米粒子添加到電鍍鎳溶液中，以較佳的攪拌效果提高納米粒子在鍍液中的分散狀態，制備耐蝕、高硬度、高附著力的納米復合鍍層。?

為實現上述目的，本實用新型公開了一種金屬納米電鍍工藝，包括電鍍設備和電鍍配方；?

所述電鍍設備包括硬顆粒、電鍍槽、儲液槽、泵、噴頭和芯模，芯模置于所述電鍍槽中，所述芯模的上部設置有噴頭，所述電鍍槽的下部開有出口，泵把電鍍液和硬顆粒從所述儲液槽中吸出并輸送到所述噴頭內，所述電鍍液和硬顆粒從芯模的上部向下沖；?

所述電鍍液的配方如下：硫酸鎳200～300g/l，氯化鎳30～43g/l，硼酸20～40g/l，十二烷基硫酸鈉0.05～0.09g/l，銀納米粒子4×10^?5～5×10^?5mol/l。?

和傳統技術相比，本實用新型的有益效果是：?

硬顆粒不斷撞擊和磨擦鍍層的表面，有效地去除電鍍層表面的氣泡并對鍍層實現機械磨削，提高電鍍層的表面光潔度和綜合機械強度。?

因此利用本實用新型所公開的金屬納米電鍍工藝，能以高效節能的方式制備出優良的電鍍層。所述硬顆粒的運動進一步提高了納米粒子在所述電鍍液中的分散狀態，使納米粒子在所述電鍍液中的分布更加均勻。?

因此利用本實用新型所公開的金屬納米電鍍工藝，能以高效節能的方式制備出優良的電鍍層。所述硬顆粒的運動進一步提高了納米粒子在所述電鍍液中的分散狀態，使納米粒子在所述電鍍液中的分布更加均勻。?

所述電鍍液和硬顆粒從所述內筒的上方進入，并從下方的出口流出，使電鍍液能夠獲得高效的更新，并提高電鍍層的質量。?

在電鍍鎳溶液中添加銀納米粒子，由于銀納米粒子有穩定劑的保護作用，進一步克服了粉體顆粒在鍍液中的團聚問題，銀納米粒子在鍍液中均勻分散。同樣的電鍍條件下，納米復合鍍液可以獲得硬度提高，結合力好，耐蝕性能優越，抗高溫氧化性強的鍍層，鍍層的性價比大大提高。?

通過以下的描述并結合附圖，本實用新型將變得更加清晰，這些附圖用于解釋本實用新型的實施例。?

圖1為本實用新型金屬納米電鍍工藝一個具體實施例中的結構示意圖。?

現在參考附圖描述本實用新型的實施例，附圖中類似的元件標號代表類似的元件。如上所述，本實用新型提供了一種金屬納米電鍍工藝，孔隙率低、機械綜合性能好的電鍍層，并且工藝性好，設備簡單，能耗低。?

電鍍過程的裝置如圖1所示。所述芯模3的材質為45號鋼，放在所述電鍍槽1中，所述電鍍槽1從充滿所述電鍍液2。所述儲液槽9中的電鍍液通過泵6進行循環供液，以保持的電鍍液的不斷更新。所述芯模3的上部設置有所述噴頭7，顆粒流通過所述噴頭7噴射到所述芯模3的上表面。?

以下是電鍍液的配方和工藝參數：?

圖1中，4為流量調節閥，其作用用于調節顆粒流流量的大小。5為過濾器，如果硬顆粒的顆粒比較大，則可以省掉過濾器5；如果?硬顆粒的顆粒比較小，則可以配備過濾器5，采用粗過濾器，其過濾能力不能濾掉硬顆粒。?

最后，應當指出，以上實施例僅是本實用新型較有代表性的例子。顯然，本實用新型不限于上述實施例，還可以有許多變形。凡是依據本實用新型的技術實質對以上實施例所作的任何簡單修改、等同變化與修飾，均應認為屬于本實用新型的保護范圍。?