[實用新型]單片式無金屬痕電容式觸控玻璃

有效

• 申請號: 201320064238.1
• 申請日: 2013-02-04
• 公開（公告）號: CN203102236U
• 公開（公告）日: 2013-07-31
• 發明（設計）人: 陳奇;沈勵;許沭華;遲曉輝
• 申請（專利權）人: 蕪湖長信科技股份有限公司
• 主分類號: G06F3/044
• 分類號: G06F3/044
• 代理公司: 蕪湖安匯知識產權代理有限公司 34107
• 代理人: 張小虹

本實用新型涉及無金屬痕帶電容式觸摸功能的蓋板玻璃（Non?Metal?reflective?Patterned?Touch?Glass）。

目前市場上主流的以玻璃基材為主的投射式電容觸摸屏面板的構成多采用將觸控玻璃（Touch?Sensor）與蓋板玻璃（Cover?Glass）貼合在一起的產品。這種設計的主要問題是工藝復雜，成本高，組件厚度太厚，重量太重，貼合良率低。已經越來越不適應電子數碼產品更輕更薄更廉的發展方向。另外由于采用的是兩片玻璃的貼合，整個電容式觸摸屏組件的透光性較差，無法滿足高清液晶顯示屏的要求，在戶外使用效果更差。

就此，各個觸控玻璃（Touch?sensor）的制造商紛紛推出一片觸控蓋板玻璃的方案，將傳統的觸控玻璃和蓋板玻璃貼合在一起的觸摸屏變成一片觸控蓋板玻璃觸摸屏。而由于是一片玻璃的觸控方案，其觸控的表面是在觸控蓋板玻璃的內表面，按照單面觸控玻璃的方案，中間會有規則的金屬線（寬度5?20微米，長度50?300微米不等），雖然不影響外觀，但是大多數消費者都很難接受極易看到這些可視區的金屬線。

本實用新型所要解決的技術問題是實現一種單片式無金屬痕電容式觸控玻璃。

為了實現上述目的，本實用新型采用的技術方案為：單片式無金屬痕電容式觸控玻璃，由保護玻璃和樹脂保護層夾持導電層構成，所述的保護玻璃與導電層之間設有二氧化硅保護層。

所述的導電層由保護玻璃向樹脂保護層方向依次設有ITO圖層、絕緣架橋層和金屬跨橋導體層，所述的導電層邊緣依次設有邊框和金屬引線。

所述的導電層邊緣邊框和金屬引線之間設有一層二氧化硅保護層絕緣。防止邊框具有導電性，導致金屬線短路。

所述的二氧化硅保護層厚度為。

所述的保護玻璃厚度為0.9?1.3mm，所述的絕緣架橋層厚度為1.2?1.8μm。

所述的保護玻璃厚度為0.9?1.3mm，所述的絕緣架橋層厚度為1.2?1.8μm。

本實用新型的優點在于不僅解決兩片玻璃造成的工藝復雜，結構復雜的問題，也可以降低投射光的反射率從而使顯示更清晰，尤其是顯示器可視區沒有金屬線反射，提高的產品的整體外觀品質。

下面對本實用新型說明書中每幅附圖表達的內容及圖中的標記作簡要說明：

圖1為單片式無金屬痕電容式觸控玻璃層結構圖；

上述圖中的標記均為：1、保護玻璃；2、二氧化硅保護層；3、邊框；4、ITO圖層；5、絕緣架橋層；6、金屬跨橋導體層；7、金屬引線；8、樹脂保護層。

下面對照附圖，通過對實施例的描述，本實用新型的具體實施方式如所涉及的各構件的形狀、構造、各部分之間的相互位置及連接關系、各部分的作用及工作原理、制造工藝及操作使用方法等，作進一步詳細的說明，以幫助本領域技術人員對本實用新型的實用新型構思、技術方案有更完整、準確和深入的理解。

參見圖1可知，本實用新型單片式無金屬痕電容式觸控玻璃，由保護玻璃1和樹脂保護層8夾持導電層構成，并在保護玻璃1與導電層之間設有一層二氧化硅保護層2，二氧化硅保護層2厚度為。

上述導電層由保護玻璃1向樹脂保護層8方向依次設有ITO圖層4、絕緣架橋層5和金屬跨橋導體層6，導電層的邊緣依次設有邊框3和金屬引線7，并在導電層邊緣邊框3和金屬引線7之間設有一層二氧化硅保護層2（由制作工藝形成），其中邊框3可以是黑、紅、橙、黃、綠、青、藍、紫各色，其主要代替貼合蓋板玻璃及貼合蓋板玻璃上的各顏色框油墨，用于抵擋金屬引線7可視。保護玻璃厚度為0.7?2.0mm，絕緣架橋層厚度為1.2?1.8μm。

本實用新型單片式無金屬痕電容式觸控玻璃的制造工藝如下：

步驟1、保護玻璃1400X500X1.1mm（僅為一個實施例的尺寸）的浮法玻璃基板，先對浮法玻璃進行化學鋼化，再在浮法玻璃一個表面（空氣面或者錫面）用光刻的方法做邊框3，即先涂一層有色膜，再依次進行涂布，烘烤，曝光、顯影，蝕刻工藝將其制作成所需圖形，制成邊框3;

步驟1、保護玻璃1400X500X1.1mm（僅為一個實施例的尺寸）的浮法玻璃基板，先對浮法玻璃進行化學鋼化，再在浮法玻璃一個表面（空氣面或者錫面）用光刻的方法做邊框3，即先涂一層有色膜，再依次進行涂布，烘烤，曝光、顯影，蝕刻工藝將其制作成所需圖形，制成邊框3;

步驟2、在具有邊框3的保護玻璃1（或還具有黑線圖案）一面采用真空鍍膜方式（磁控濺射或電子槍蒸發）鍍一層二氧化硅保護層2，厚度為10nm?100nm；