[實用新型]利用光聲光譜法檢測硫酰氟氣體殘留濃度的裝置有效
| 申請號： | 201320060035.5 | 申請日： | 2013-02-03 |
| 公開（公告）號： | CN203069507U | 公開（公告）日： | 2013-07-17 |
| 發明（設計）人： | 陳默;安德里亞斯·何斯特;李茂 | 申請（專利權）人： | 江蘇舒茨測控設備有限公司 |
| 主分類號： | G01N21/35 | 分類號： | G01N21/35 |
| 代理公司： | 南京理工大學專利中心 32203 | 代理人： | 朱顯國 |
| 地址： | 215513 江蘇省蘇州市常熟*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 利用 聲光 檢測 酰氟 氣體 殘留 濃度 裝置 | ||
【權利要求書】：
1.一種利用光聲光譜法檢測硫酰氟氣體殘留濃度的裝置，其特征在于所述裝置包括光源（1）、斬波器（2）、濾光片（3）、光聲池（4）、微音器（5）及紅外濕度傳感器（6）；其中光源（1）連接斬波器（2），與濾光片（3）設置在光聲池（4）一側；紅外濕度傳感器（6）設置連接在光聲池（4）的另一側；微音器（5）設置在光聲池（4）的底部，光源（1）發出光發射到斬波器（2），通過斬波器（2）切光，形成調制光；調制光照射到濾光片（3）上后，形成窄帶可調制光譜，照射到光聲池（4）。
2.根據權利要求1所述的利用光聲光譜法檢測硫酰氟氣體殘留濃度的裝置，其特征在于所述光源（1）采用非干涉熱輻射源，工作溫度為850攝氏度。
3.根據權利要求1所述的利用光聲光譜法檢測硫酰氟氣體殘留濃度的裝置，其特征在于所述濾光片（3）采用波數860、中心波長為11.6微米的窄帶濾光片。
4.根據權利要求1所述的利用光聲光譜法檢測硫酰氟氣體殘留濃度的裝置，其特征在于所述微音器（5）采用振動敏感度小于<1dB的硅微微音器。
5.根據權利要求1所述的利用光聲光譜法檢測硫酰氟氣體殘留濃度的裝置，其特征在于所述光聲池（4）使用非諧振圓柱體結構。
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