[實(shí)用新型]大面積連續(xù)磁控濺射鍍膜均勻性調(diào)整裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201320059449.6
• 申請(qǐng)日: 2013-02-01
• 公開（公告）號(hào): CN203065568U
• 公開（公告）日: 2013-07-17
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 郭愛云;黃國興;孫桂紅;祝海生;梁紅;黃樂
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 湘潭宏大真空技術(shù)股份有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/35
• 分類號(hào): C23C14/35;C23C14/54
• 代理公司: 湘潭市匯智專利事務(wù)所 43108
• 代理人: 顏昌偉

1.一種大面積連續(xù)磁控濺射鍍膜均勻性調(diào)整裝置，其特征在于：包括安裝架和多塊修正小滑塊；所述多塊修正小滑塊并行排列，并且垂直安裝在矩形安裝架的至少一邊內(nèi)框上，每個(gè)修正小滑塊均可相對(duì)于安裝架滑動(dòng)；修正小滑塊伸出端的邊緣在矩形安裝架內(nèi)框區(qū)域形成調(diào)整曲線，所述的安裝架和修正小滑塊均采用不導(dǎo)磁材料。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的大面積連續(xù)磁控濺射鍍膜均勻性調(diào)整裝置，其特征在于：所述多塊修正小滑塊并行排列，垂直安裝在安裝架的豎直方向的兩內(nèi)框上。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的大面積連續(xù)磁控濺射鍍膜均勻性調(diào)整裝置，其特征在于：所述修正小滑塊，其與安裝架連接的一端設(shè)有滑槽，通過滑槽安裝在安裝架上。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的大面積連續(xù)磁控濺射鍍膜均勻性調(diào)整裝置，其特征在于：所述修正小滑塊包括窄修正小滑塊和寬修正小滑塊，安裝架內(nèi)框的上端和下端均安裝有多個(gè)窄修正小滑塊，寬修正小滑塊位于兩端的窄修正小滑塊之間。