[實(shí)用新型]一種熔制鑭系光學(xué)玻璃用坩堝

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201320056827.5
• 申請日: 2013-01-31
• 公開（公告）號: CN203095833U
• 公開（公告）日: 2013-07-31
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王自力;李波
• 申請（專利權(quán)）人: 成都尤利特光電科技有限公司
• 主分類號: C03B5/08
• 分類號: C03B5/08
• 代理公司: 成都高遠(yuǎn)知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 51222
• 代理人: 李高峽

本實(shí)用新型涉及冶煉設(shè)備領(lǐng)域，尤其是涉及一種熔制鑭系光學(xué)玻璃用坩堝。

鑭系光學(xué)玻璃是一種高檔的無色光學(xué)玻璃，為了保證鑭系光學(xué)玻璃的各種光學(xué)性能，要求在熔制過程中，嚴(yán)禁引入鐵、鎳、錳等著色粒子，所以鑭系光學(xué)玻璃的原料、設(shè)備以及工裝器具的選擇上，都要求較高。

目前有的廠商使用廉價(jià)石英坩堝作為堝體替代鉑金堝體，在堝體外包覆耐火材料基質(zhì)的套筒，中間縫隙以耐火材料填充物填充，此設(shè)備制造成本低，簡單可行。然而堝體外部的耐火材料基質(zhì)套筒減少石英坩堝受熱輻射量，導(dǎo)致生產(chǎn)時(shí)能量損失嚴(yán)重且升溫階段花費(fèi)時(shí)間較長，提高了生產(chǎn)成本。

本實(shí)用新型旨在提供一種生產(chǎn)時(shí)能量損失較少且升溫較快的熔制鑭系光學(xué)玻璃用坩堝。

本實(shí)用新型的技術(shù)方案是一種熔制鑭系光學(xué)玻璃用坩堝，包括石英坩堝和位于石英坩堝底部的耐火材料底座。

優(yōu)選的，所述耐火材料底座上表面開有與石英坩堝底部形狀相適配的凹槽，石英坩堝底部嵌入耐火材料底座內(nèi)，且耐火材料底座頂部的高度低于石英坩堝高度的四分之一。

優(yōu)選的，所述石英坩堝底部開有出料孔，耐火材料底座內(nèi)部連接出料孔的流通通道。

進(jìn)一步的，所述石英坩堝底面與側(cè)面之間為圓角過渡。

本實(shí)用新型生產(chǎn)過程能耗低，升溫快，生產(chǎn)周期短，提高了生產(chǎn)效率，降低了生產(chǎn)成本。

本實(shí)用新型生產(chǎn)過程能耗低，升溫快，生產(chǎn)周期短，提高了生產(chǎn)效率，降低了生產(chǎn)成本。

圖1為本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)示意圖；

圖中：1?石英坩堝，2?耐火材料底座，3?通道。

下面結(jié)合附圖，對本實(shí)用新型進(jìn)行進(jìn)一步詳細(xì)說明。

如圖1所示，本實(shí)用新型公開了一種熔制鑭系光學(xué)玻璃用坩堝，包括石英坩堝1和位于石英坩堝1底部的耐火材料底座2。

優(yōu)選的，耐火材料底座2上表面開有與石英坩堝1底部形狀相適配的凹槽，石英坩堝1底部嵌入耐火材料底座2內(nèi)，且耐火材料底座2頂部的高度低于石英坩堝1高度的四分之一。

優(yōu)選的，耐火材料底座2內(nèi)部有連接石英坩堝1底部的通道3，使受熱更加均勻，減少熱量損失。

進(jìn)一步的，石英坩堝1底面與側(cè)面之間為圓角過渡。

本實(shí)用新型的升溫時(shí)間比帶套筒的石英坩堝的升溫時(shí)間縮短約7～8小時(shí)，同時(shí)對生產(chǎn)設(shè)備、石英坩堝無不利影響，本實(shí)用新型物化性能與帶套筒的石英坩堝表現(xiàn)一致；在熔制階段，熔煉時(shí)間大幅縮短，因玻璃牌號不同縮短的時(shí)間長短不一，每批次熔煉時(shí)間縮短7～10小時(shí)，時(shí)間縮短減少了熔制過程中玻璃液對石英坩堝的侵蝕，提高了石英坩堝使用壽命,并且生產(chǎn)效率得到提高約80%；采用本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)，石英坩堝直接接觸爐膛內(nèi)的輻射熱量，受熱更加均勻，系統(tǒng)升溫時(shí)間及玻璃熔制時(shí)間均較有套筒坩堝系統(tǒng)明顯縮短，并且玻璃熔制的工藝溫度也相應(yīng)降低，同一牌號玻璃新工藝熔煉溫度比帶套筒的石英坩堝降低約80～100℃，使得石英坩堝使用壽命得到提高，能耗降低，生產(chǎn)總成本降低，生產(chǎn)效率得到提高。

當(dāng)然，本實(shí)用新型還可有其它多種實(shí)施例，在不背離本實(shí)用新型精神及其實(shí)質(zhì)的情況下，熟悉本領(lǐng)域的技術(shù)人員可根據(jù)本實(shí)用新型作出各種相應(yīng)的改變和變形，但這些相應(yīng)的改變和變形都應(yīng)屬于本實(shí)用新型所附的權(quán)利要求的保護(hù)范圍。