[實用新型]噴嘴清洗裝置以及涂布裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201320055926.1
• 申請日: 2013-01-31
• 公開（公告）號: CN203184265U
• 公開（公告）日: 2013-09-11
• 發(fā)明（設計）人: 高木善則
• 申請（專利權）人: 大日本網屏制造株式會社
• 主分類號: B08B3/00
• 分類號: B08B3/00;H01L21/67
• 代理公司: 北京同立鈞成知識產權代理有限公司 11205
• 代理人: 臧建明;張洋

1.一種噴嘴清洗裝置，用于清洗狹縫噴嘴，所述狹縫噴嘴具有狹縫狀的涂布液噴出口及靠近所述涂布液噴出口的傾斜面，且對基板涂布涂布液，其特征在于，所述噴嘴清洗裝置包括：

第1及第2板狀構件，彼此相向地配置，從而形成狹縫狀的氣體噴出口；以及

第3板狀構件，與所述第2板狀構件相向地配置，從而形成狹縫狀的清洗液噴出口，

將從所述第1板狀構件與所述第2板狀構件之間所形成的氣體噴出口噴出的氣體、和從所述第2板狀構件與所述第3板狀構件之間所形成的清洗液噴出口噴出的清洗液混合而生成的液滴噴出至所述狹縫噴嘴中的傾斜面，并且

在所述第3板狀構件中的與所述第2板狀構件相反的一側，形成有朝大氣開放的空間區(qū)域。

2.根據權利要求1所述的噴嘴清洗裝置，其特征在于包括：

位置調整機構，使所述第3板狀構件相對于所述第2板狀構件而朝從所述清洗液噴出口噴出的清洗液的噴出方向移動，從而調整所述第3板狀構件的位置。

3.根據權利要求2所述的噴嘴清洗裝置，其特征在于，

在所述第1板狀構件中的與所述第2板狀構件相反的一側，配設包圍所述狹縫噴嘴中的傾斜面的罩，并且具備吹洗機構，所述吹洗機構向所述罩中的與所述第1板狀構件相反的一側的區(qū)域供給氣體。

4.一種噴嘴清洗裝置，用于清洗狹縫噴嘴，所述狹縫噴嘴具有狹縫狀的涂布液噴出口及靠近所述涂布液噴出口的傾斜面，且對基板涂布涂布液，其特征在于，所述噴嘴清洗裝置包括：

混合部，將清洗液與氣體予以混合；以及

第1及第2板狀構件，彼此相向地配置，從而形成狹縫狀的噴出口，

從形成在所述第1板狀構件與所述第2板狀構件之間的噴出口，將由所述混合部混合的清洗液與氣體而生成的液滴噴出至所述狹縫噴嘴中的傾斜面，并且

在所述第2板狀構件中的與所述第1板狀構件相反的一側，形成有朝大氣開放的空間區(qū)域。

5.一種涂布裝置，對基板的表面涂布涂布液，其特征在于，所述涂布裝置包括：

載臺，載置所述基板；

狹縫噴嘴，具有狹縫狀的涂布液噴出口及靠近所述涂布液噴出口的傾斜面，在與載置于所述載臺的基板的表面靠近的狀態(tài)下，相對于所述基板而沿水平方向相對地移動，從而對所述基板的表面涂布涂布液；以及

權利要求1至4中任一所述的噴嘴清洗裝置。