[實用新型]霧化清洗裝置

有效

• 申請號: 201320053203.8
• 申請日: 2013-01-30
• 公開（公告）號: CN203124323U
• 公開（公告）日: 2013-08-14
• 發明（設計）人: 劉效巖;吳儀;初國超;王浩
• 申請（專利權）人: 北京七星華創電子股份有限公司
• 主分類號: B08B3/02
• 分類號: B08B3/02;B08B13/00
• 代理公司: 北京路浩知識產權代理有限公司 11002
• 代理人: 韓國勝

1.一種霧化清洗裝置，其特征在于，所述霧化清洗裝置包括冷卻結構（3）、氣動霧化結構（5）以及固定于所述氣動霧化結構（5）之上諧振霧化結構，所述冷卻結構（3）固定于所述諧振霧化結構之上，所述諧振霧化結構包括換能器和諧振器（6），所述諧振器（6）上設有排液孔（15），所述氣動霧化結構（5）上開有第二進液孔、第二進氣孔（8）和霧化噴射口（10），所述排液孔（15）與所述第二進液孔相連，所述第二進液孔與所述霧化噴射口（10）連通，所述第二進氣孔（8）和所述霧化噴射口（10）連通。

2.根據權利要求1所述的霧化清洗裝置，其特征在于，所述排液孔（15）與所述第二進液孔通過導管（4）相連；所述冷卻結構（3）為上端封閉且下端開口的圓柱形殼體，冷卻結構（3）的側壁上設有第三進氣孔（2）和排氣孔（11），所述冷卻結構（3）的封閉端設有電纜接頭（1），所述電纜接頭（1）與所述換能器相連。

3.根據權利要求2所述的霧化清洗裝置，其特征在于，所述冷卻結構（3）的內部從封閉端向下延伸出與所述冷卻結構（3）的側壁同心的第二環狀薄壁，所述第二環狀薄壁與所述冷卻結構（3）的側壁之間的空間為第二外環，所述第二環狀薄壁內的空間為第二內環，所述第三進氣孔（2）設置于冷卻結構（3）的封閉端且與所述第二內環相連，所述排氣孔（11）設置于所述冷卻結構（3）的側壁上且與所述第二外環相連，所述第二環狀薄壁下端均布有連通第二外環與第二內環的第二通孔（12）。

4.根據權利要求1-3任一項所述的霧化清洗裝置，其特征在于，所述換能器包括壓電晶體（13）和耦合片（19），所述壓電晶體（13）通過導電膠與耦合片（19）連接，所述耦合片（19）位于所述諧振器（6）之上且將所述冷卻結構（3）與所述諧振器（6）隔離。

5.根據權利要求4所述的霧化清洗裝置，其特征在于，所述耦合片（19）由單一介質或多介質制成，厚度為1/4波長的整數倍。

6.根據權利要求5所述的霧化清洗裝置，其特征在于，所述諧振器（6）為上端開口且下端封閉的圓筒結構，其上端開口通過所述耦合片（19）密封，所述諧振器（6）的側壁上還設有第一進氣孔（7）、第一進液孔（18）。

7.根據權利要求6所述的霧化清洗裝置，其特征在于，所述諧振器（6）的內部從封閉端向上延伸出與所述諧振器（6）的側壁同心的第一環狀薄壁，所述第一環狀薄壁與所述諧振器（6）的側壁之間的空間為第一外環（16），所述第一環狀薄壁內的空間為第一內環（20），所述第一進氣孔（7）和所述第一進液孔（18）設置于所述諧振器（6）的側壁上且與所述第一外環（16）連通，所述排液孔（15）設置于第一環狀薄壁上部且與所述第一內環（20）連通，所述諧振器（6）的側壁上開有安裝導管（4）的第一安裝孔，所述第一環狀薄壁下端均布有連通第一外環（16）與第一內環（20）的第一通孔（17）。

8.根據權利要求7所述的霧化清洗裝置，其特征在于，在所述第一外環（16）與所述耦合片（19）之間設有一個圓環形擋板，所述擋板下部沿軸向延伸出凸出部分，使擋板的橫截面成“T”字型，所述擋板下部的凸出部分插入第一外環（16）并與第一外環（16）上部粘合。

9.根據權利要求8所述的霧化清洗裝置，其特征在于，所述擋板的下端面在所述第一通孔（17）之上，所述擋板上開有用于安裝導管（4）的第二安裝孔。

10.根據權利要求9所述的霧化清洗裝置，其特征在于，所述氣動霧化結構（5）為圓柱體，在所述氣動霧化結構（5）的中心軸上開孔形成霧化噴射口（10），在所述氣動霧化結構（5）的徑向開有第二進液孔。

11.根據權利要求10所述的霧化清洗裝置，其特征在于，所述氣動霧化結構（5）的上端設有法蘭，所述冷卻結構（3）、諧振器（6）和氣動霧化結構（5）通過螺栓固定連接。