[實用新型]一種光刻機投影物鏡波像差在線測量裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201320047881.3
• 申請日: 2013-01-29
• 公開（公告）號: CN203133473U
• 公開（公告）日: 2013-08-14
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 劉廣義;齊月靜;張清洋;周翊;王宇
• 申請（專利權(quán)）人: 中國科學(xué)院光電研究院
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G01M11/02
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021
• 代理人: 宋焰琴

1.一種光刻機投影物鏡波像差在線測量裝置，包括光源(LA)、投影物鏡(PO)、探測器(DE)和工件臺(ST)，所述光源(LA)用于出射激光，其特征在于：

所述裝置還包括掩模板(MA)，其上具有測試標(biāo)記(7)，所述激光將該測試標(biāo)記(7)經(jīng)由所述投影物鏡(PO)成像；

所述探測器(DE)具有一個表面和在該表面以下的光電傳感器，所述表面上設(shè)置有參考標(biāo)記；

所述對測試標(biāo)記(7)進行成像的激光經(jīng)過該參考標(biāo)記后照射在所述光電傳感器上；

所述工作臺(ST)用于承載所述探測器(DE)，該工作臺可以在水平、垂直方向上移動。

2.如權(quán)利要求1所述的光刻機投影物鏡波像差在線測量裝置，其特征在于，所述掩模板(MA)還包括多照明模式模板(5)和會聚透鏡(6)，入射到所掩模板(MA)的激光通過所述多照明模式模板(5)后由所述會聚透鏡(6)整形，然后照射在所述測試標(biāo)記(7)上，所述多照明模式模板(5)是具有特定特征圖案的掩模板，所述特征圖案是能夠產(chǎn)生多種照明模式的特征圖案；所述參考標(biāo)記和測試標(biāo)記的圖案位置分布與所述多模式模板上的特征圖案的位置分布相同。

3.如權(quán)利要求2所述的光刻機投影物鏡波像差在線測量裝置，其特征在于，所述多照明模式模板的特征圖案呈三行三列分布。

4.如權(quán)利要求2所述的光刻機投影物鏡波像差在線測量裝置，其特征在于，所述掩模板(MA)還包括擴散片(4)，其用于對激光光束在空間上進行均勻化。

5.如權(quán)利要求1-4中任一項所述的光刻機投影物鏡波像差在線測量裝置，其特征在于，所述參考標(biāo)記和測試標(biāo)記具有相同的圖案和圖案分布，且其尺寸之比為所述投影物鏡(PO)的放大倍數(shù)。

6.如權(quán)利要求5所述的光刻機投影物鏡波像差在線測量裝置，其特征在于，所述光電傳感器是多元傳感器，其包括多個傳感器元(81、82、83)，所述各傳感器元的位置分布和所述測試標(biāo)記(7)中的圖案分布一致，并且分別設(shè)置在在所述參考標(biāo)記的正下方，接收從對應(yīng)參考標(biāo)記照射下來的激光。

7.如權(quán)利要求5所述的光刻機投影物鏡波像差在線測量裝置，其特征在于，所述多照明模式模板(5)的特征圖案包括能夠產(chǎn)生環(huán)形照明模式、二極照明模式和四極照明模式的特征圖案。

8.如權(quán)利要求5所述的光刻機投影物鏡波像差在線測量裝置，其特征在于，所述測試標(biāo)記或參考標(biāo)記包括用于實時測量光源的強度變化的圖案(101)。