[實(shí)用新型]長(zhǎng)晶裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201320046849.3 | 申請(qǐng)日: | 2013-01-28 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN203112960U | 公開(kāi)(公告)日: | 2013-08-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 呂建興;宋永萱;陳智勇;劉哲銘;游惠喬;徐文慶;陳志臣 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中美矽晶制品股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | C30B17/00 | 分類號(hào): | C30B17/00;C30B29/20 |
| 代理公司: | 隆天國(guó)際知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 72003 | 代理人: | 趙根喜;呂俊清 |
| 地址: | 中國(guó)臺(tái)*** | 國(guó)省代碼: | 中國(guó)臺(tái)灣;71 |
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技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型是有關(guān)一種長(zhǎng)晶裝置,且特別是有關(guān)于一種能調(diào)整坩鍋內(nèi)熔湯表面溫梯分布的長(zhǎng)晶裝置。
背景技術(shù)
為了制造藍(lán)寶石晶片,典型的做法是,將被填入高純度氧化鋁原料的長(zhǎng)晶裝置加熱至或超過(guò)攝氏2100度以熔化該原料,接著經(jīng)歷一連串程序如鉆取、圓磨、切片、研磨、熱處理及拋光以取得單晶晶片。
在制造藍(lán)寶石單晶時(shí),控制氣泡及控制錯(cuò)位對(duì)于品質(zhì)上具有重大的影響。錯(cuò)位可通過(guò)在晶體成長(zhǎng)后利用蝕刻方法而被量測(cè)。錯(cuò)位主要是因?yàn)闊釕?yīng)力而產(chǎn)生,而熱應(yīng)力主要是發(fā)生在長(zhǎng)晶時(shí)的晶體內(nèi)部與外部的溫度差。因此,錯(cuò)位密度可通過(guò)控制熱應(yīng)力而被控制。
舉例來(lái)說(shuō),在過(guò)往的經(jīng)驗(yàn)中,由于長(zhǎng)晶裝置通常是在其側(cè)面與底部加熱,故導(dǎo)致在晶體的頂部與底部之間具有溫度梯度。上述溫度梯度所產(chǎn)生的熱應(yīng)力最終導(dǎo)致錯(cuò)位而影響晶體品質(zhì)。
于是,本實(shí)用新型為改善上述缺點(diǎn),乃特潛心研究并配合學(xué)理的運(yùn)用,終于提出一種設(shè)計(jì)合理且有效改善上述缺點(diǎn)的本實(shí)用新型。
實(shí)用新型內(nèi)容
為解決上述技術(shù)問(wèn)題,本實(shí)用新型的主要目的在于提供一種長(zhǎng)晶裝置,其能用以有效地調(diào)整熔湯表面的溫梯分布。
本實(shí)用新型實(shí)施例提供一種長(zhǎng)晶裝置,包括:一坩鍋;一坩鍋蓋,其界定有一開(kāi)口,該坩鍋蓋裝設(shè)于該坩鍋上,且該坩鍋與該坩鍋蓋包圍定義出一容置空間,該容置空間經(jīng)該開(kāi)口而連通于外;以及多個(gè)熱反射環(huán),其設(shè)置于該容置空間內(nèi)且分別懸吊于該坩鍋蓋,而任兩相鄰的熱反射環(huán)呈間隔設(shè)置,且所述多個(gè)熱反射環(huán)與該坩鍋蓋之間各形成有一第一角度,所述多個(gè)熱反射環(huán)能在該長(zhǎng)晶裝置加熱過(guò)程中產(chǎn)生形變,以使每一熱反射環(huán)與該坩鍋蓋之間的第一角度能變化至一第二角度。
根據(jù)上述構(gòu)思,進(jìn)一步包括多個(gè)桿狀的固定件,所述多個(gè)固定件裝設(shè)于該坩鍋蓋,所述多個(gè)熱反射環(huán)定位于所述多個(gè)固定件而懸吊于該坩鍋蓋,并且所述多個(gè)熱反射環(huán)與所述多個(gè)固定件之間留有余隙,以容許所述多個(gè)熱反射環(huán)與該坩鍋蓋之間的角度變化。
根據(jù)上述構(gòu)思,進(jìn)一步包括多個(gè)定位件,每一熱反射環(huán)形成有多個(gè)通孔,每一通孔的尺寸小于每一定位件的尺寸,所述多個(gè)熱反射環(huán)分別經(jīng)由所述多個(gè)定位件與所述多個(gè)固定件的配合而懸吊于該坩鍋蓋。
根據(jù)上述構(gòu)思,每一熱反射環(huán)呈板狀且具有相對(duì)的一第一面與一第二面,于該長(zhǎng)晶裝置加熱過(guò)程中,每一熱反射環(huán)的第一面與第二面分別受到不同的熱應(yīng)力而產(chǎn)生不同的熱膨脹,以使每一熱反射環(huán)與該坩鍋蓋之間的第一角度能變化至該第二角度。
根據(jù)上述構(gòu)思,該第一角度為平角,而該第二角度為銳角。
根據(jù)上述構(gòu)思,所述多個(gè)熱反射環(huán)與該坩鍋蓋之間各形成該第二角度時(shí),每一熱反射環(huán)的內(nèi)徑自鄰近該坩鍋蓋朝遠(yuǎn)離該坩鍋蓋的方向逐漸遞增。
根據(jù)上述構(gòu)思,進(jìn)一步具有多層環(huán)狀隔熱片,所述多層隔熱片層層依序堆疊于該坩鍋蓋的外表面上。
根據(jù)上述構(gòu)思,所述多層隔熱片的內(nèi)徑自鄰近該坩鍋蓋朝遠(yuǎn)離該坩鍋蓋的方向逐層遞增,所述多層隔熱片的外緣與該坩鍋蓋的外緣切齊。
綜上所述,本實(shí)用新型的有益效果在于,實(shí)施例所提供的長(zhǎng)晶裝置,其能提高制程參數(shù)的可調(diào)區(qū)間,以控制熔湯表面溫梯分布,進(jìn)而減少擴(kuò)肩急速生長(zhǎng)的機(jī)率,達(dá)到減少晶體的熱應(yīng)力集中,以提升晶體品質(zhì)的效果。
附圖說(shuō)明
圖1A為本實(shí)用新型長(zhǎng)晶裝置未加熱時(shí)的平面示意圖(一)。
圖1B為圖1A的局部立體示意圖。
圖1C為本實(shí)用新型長(zhǎng)晶裝置未加熱時(shí)的平面示意圖(二)。
圖1D為本實(shí)用新型長(zhǎng)晶裝置未加熱時(shí)的平面示意圖(三)。
圖2A為本實(shí)用新型長(zhǎng)晶裝置加熱后的平面示意圖(一)。
圖2B為本實(shí)用新型長(zhǎng)晶裝置加熱后的平面示意圖(二)。
圖3為本實(shí)用新型晶體制造方法的步驟示意圖。
其中,附圖標(biāo)記說(shuō)明如下:
100長(zhǎng)晶裝置
1坩鍋
11容置空間
2坩鍋蓋
21開(kāi)口
22貫穿孔
3隔熱單元
31隔熱片
4熱反射環(huán)
41第一面
42第二面
43延伸部
44通孔
5吊掛單元
51固定件(如:螺絲)
52定位件(如:螺帽)
200熔湯
201凝結(jié)物
具體實(shí)施方式
本實(shí)用新型為一種長(zhǎng)晶裝置及晶體制造方法。首先,針對(duì)運(yùn)用在晶體制造方法的長(zhǎng)晶裝置作一簡(jiǎn)要說(shuō)明,其后,再接著介紹晶體制造方法。
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